[发明专利]接触结构及半导体器件有效
申请号: | 201110233050.0 | 申请日: | 2000-07-24 |
公开(公告)号: | CN102339812A | 公开(公告)日: | 2012-02-01 |
发明(设计)人: | 山崎舜平 | 申请(专利权)人: | 株式会社半导体能源研究所 |
主分类号: | H01L23/50 | 分类号: | H01L23/50;G02F1/13;G02F1/1362 |
代理公司: | 中国专利代理(香港)有限公司 72001 | 代理人: | 徐予红;朱海煜 |
地址: | 日本神奈*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 接触 结构 半导体器件 | ||
1.一种显示器件,包括:
基片;
在所述基片上的端子部分中的连接布线;
在所述连接布线上的保护膜,该保护膜具有树脂;以及
各向异性导电膜,该各向异性导电膜将所述连接布线电连接到外部电源,
其中,所述保护膜覆盖所述连接布线的侧面。
2.根据权利要求1所述的显示器件,
其中,所述连接布线包括选自铝、钛、钼、钽和钨的一种金属。
3.根据权利要求1所述的显示器件,
其中,所述连接布线包括钛膜和在所述钛膜上的铝膜。
4.根据权利要求1所述的显示器件,
其中,所述连接布线包括选自In2O3、In2O3-SnO2、In2O3-ZnO、ZnO和掺有镓的ZnO的一种材料。
5.根据权利要求1所述的显示器件,还包括在所述基片上的相对基片,
其中,所述基片和所述相对基片通过密封剂粘在一起,该密封剂形成在所述端子部分的内部。
6.一种显示器件,包括:
基片;
在所述基片上的端子部分中的连接布线;
在所述连接布线上的保护膜,该保护膜具有树脂;以及
各向异性导电膜,该各向异性导电膜将所述连接布线电连接到外部电源,
其中,所述保护膜覆盖所述连接布线的侧面,以及
其中,所述连接布线具有锥形截面。
7.根据权利要求6所述的显示器件,
其中,所述连接布线包括选自铝、钛、钼、钽和钨的一种金属。
8.根据权利要求6所述的显示器件,
其中,所述连接布线包括钛膜和在所述钛膜上的铝膜。
9.根据权利要求6所述的显示器件,
其中,所述连接布线包括选自In2O3、In2O3-SnO2、In2O3-ZnO、ZnO和掺有镓的ZnO的一种材料。
10.根据权利要求6所述的显示器件,还包括在所述基片上的相对基片,
其中,所述基片和所述相对基片通过密封剂粘在一起,该密封剂形成在所述端子部分的内部。
11.一种显示器件,包括:
在基片上的像素部分,该像素部分包括:
具有栅极布线和源极/漏极布线的薄膜晶体管;以及
在所述基片上并在所述像素部分外部的端子部分,该端子部分包括:
连接布线;
在所述连接布线上的保护膜,该保护膜具有树脂;以及
各向异性导电膜,该各向异性导电膜将所述连接布线电连接到外部电源,
其中,所述连接布线和所述源极/漏极布线在相同的工艺中形成。
12.根据权利要求11所述的显示器件,
其中,所述连接布线包括选自铝、钛、钼、钽和钨的一种金属。
13.根据权利要求11所述的显示器件,
其中,所述连接布线包括钛膜和在所述钛膜上的铝膜。
14.根据权利要求11所述的显示器件,
其中,所述连接布线包括选自In2O3、In2O3-SnO2、In2O3-ZnO、ZnO和掺有镓的ZnO的一种材料。
15.根据权利要求11所述的显示器件,还包括在所述基片上的相对基片,
其中,所述基片和所述相对基片通过密封剂粘在一起,该密封剂形成在所述端子部分的内部。
16.根据权利要求11所述的显示器件,还包括:
在所述基片上的相对基片;以及
在所述基片和所述相对基片之间的隔离物,
其中,所述保护膜和所述隔离物在相同工艺中形成。
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