[发明专利]显影装置和图像形成装置有效
申请号: | 201110242740.2 | 申请日: | 2011-08-19 |
公开(公告)号: | CN102375373A | 公开(公告)日: | 2012-03-14 |
发明(设计)人: | 浜田敏正 | 申请(专利权)人: | 夏普株式会社 |
主分类号: | G03G15/08 | 分类号: | G03G15/08;G03G15/00 |
代理公司: | 北京尚诚知识产权代理有限公司 11322 | 代理人: | 龙淳 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 显影 装置 图像 形成 | ||
1.一种单成分显影方式的显影装置,其特征在于:
所述显影装置具有显影辊和进行调色剂层限制的刮板,对所述显影辊施加偏置电压,利用调色剂将形成于静电潜像载持体的静电潜像显影,
将所述刮板分成包含与所述显影辊最接近的部分的显影辊旋转方向的下游区域、和不包含该与所述显影辊最接近的部分的显影辊旋转方向的上游区域这两个区域,该上游区域中的调色剂与所述刮板的附着力小于所述下游区域中的调色剂与所述刮板的附着力。
2.如权利要求1所述的显影装置,其特征在于:
所述刮板中,通过使所述上游区域的表面的亲水性高于所述下游区域的表面的亲水性,使所述上游区域中的调色剂与所述刮板的附着力小于所述下游区域中的调色剂与所述刮板的附着力。
3.如权利要求2所述的显影装置,其特征在于:
所述刮板中,在所述上游区域和所述下游区域为相同材料,通过改变所述上游区域和所述下游区域的表面处理来改变亲水性。
4.如权利要求3所述的显影装置,其特征在于:
所述刮板中,通过在将所述下游区域遮蔽的状态下进行等离子体表面处理,仅改变所述上游区域的亲水性。
5.如权利要求3所述的显影装置,其特征在于:
所述刮板中,通过在将所述下游区域遮蔽的状态下进行电晕放电处理,仅改变所述上游区域的亲水性。
6.如权利要求3所述的显影装置,其特征在于:
所述刮板中,通过仅对所述上游区域照射准分子激光,仅改变所述上游区域的亲水性。
7.如权利要求2所述的显影装置,其特征在于:
所述刮板中,通过在所述上游区域和所述下游区域使用亲水性不同的材料,提高所述上游区域的亲水性。
8.如权利要求1所述的显影装置,其特征在于:
所述刮板中,通过使所述上游区域的表面粗糙度小于所述下游区域的表面粗糙度,使所述上游区域中的调色剂与所述刮板的附着力小于所述下游区域中的调色剂与所述刮板的附着力。
9.如权利要求1所述的显影装置,其特征在于:
所述刮板中,所述上游区域的厚度比所述下游区域厚。
10.如权利要求1所述的显影装置,其特征在于:
在所述显影辊与所述刮板接近的部分和所述显影辊与向所述显影辊供给调色剂的供给辊接触的部分之间,并且在接近所述显影辊的位置,配置有辅助旋转部件,该辅助旋转部件与所述显影辊反向地旋转。
11.如权利要求10所述的显影装置,其特征在于:
所述辅助旋转部件的表面粗糙度大于所述刮板的所述上游区域的表面粗糙度。
12.如权利要求10所述的显影装置,其特征在于:
所述辅助旋转部件是金属辊。
13.如权利要求10所述的显影装置,其特征在于:
在所述辅助旋转部件的表面形成有槽。
14.如权利要求10所述的显影装置,其特征在于:
所述辅助旋转部件具有与旋转轴垂直的多个叶片。
15.如权利要求10所述的显影装置,其特征在于:
显影步骤结束时,在显影辊停止之后,经过一定时间后使所述辅助旋转部件停止。
16.一种图像形成装置,其特征在于:
包括权利要求1所述的显影装置。
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