[发明专利]显影装置和图像形成装置有效

专利信息
申请号: 201110242740.2 申请日: 2011-08-19
公开(公告)号: CN102375373A 公开(公告)日: 2012-03-14
发明(设计)人: 浜田敏正 申请(专利权)人: 夏普株式会社
主分类号: G03G15/08 分类号: G03G15/08;G03G15/00
代理公司: 北京尚诚知识产权代理有限公司 11322 代理人: 龙淳
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
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摘要:
搜索关键词: 显影 装置 图像 形成
【说明书】:

技术领域

发明涉及利用调色剂将形成在静电潜像载持体上的静电潜像显影的单成分显影方式的显影装置,和具有该显影装置的图像形成装置。

背景技术

在电子照片方式的图像形成装置中,采用以下显影方法:使静电潜像载持体(例如感光体)的表面带电,根据图像信息对该带电区域进行曝光,由此形成静电潜像,将静电潜像显影而使之可视化(显影)。

在这样的显影方法中,有不使用载体而只使用调色剂作为显影剂的单成分显影方式。

参照图13和图14说明现有的单成分显影方式的显影装置的一例。图13是表示现有的显影装置中通过调色剂层限制刮板(blade)之前的调色剂的状态的示意图,图14是表示与图13的状态相比调色剂进一步凝集的状态的示意图。

该显影装置的主要的结构包括:用于使调色剂在感光体上显影的显影辊3,用于对显影辊3进行调色剂的供给和剥离的供给辊2;和将从供给辊2供给到显影辊3的调色剂限制为规定量,并且对该调色剂附加带电量的调色剂层限制刮板5k。刮板5k构成为在金属制的板(plate)5p的前端部安装有聚氨酯等橡胶部件5q的结构。

此处,为了实现高画质化,使到达显影区域的显影辊3上的调色剂层均匀是非常重要的。

日本特开2000-187386号公报中记载的显影装置,通过对层限制刮板的弹性橡胶对显影辊的咬入量或橡胶硬度的范围进行限定,来使通过刮板之后的显影辊上的调色剂层的附着量或带电量稳定。

日本特开2000-187386号公报中记载的显影装置中,通过减小弹性橡胶的咬入量,使橡胶硬度下降,来减轻对调色剂的负荷,抑制调色剂劣化。

但是,为了确保调色剂的带电量,需要一定程度以上的弹性橡胶的咬入量和一定程度以上的橡胶硬度,仅通过使它们最佳化是难以实现带电量的确保和调色剂劣化的抑制的。

调色剂劣化的主要原因在于:在刮板与显影辊最接近的区域中刮板压住调色剂;供给辊与显影辊接触,因此在向显影辊供给调色剂时对调色剂施加负荷,除此之外,在刮板与显影辊最接近的区域的上游侧,显影辊与刮板之间的调色剂不移动而缓慢地受到压力凝集起来也会导致调色剂劣化。

以图13的例子进行说明,如实线的箭头所示,汲取到显影辊3上的调色剂,由于通过刮板5k,因而被限制为一定的调色剂量,但在通过刮板之前会产生一定量的调色剂的堆积。虽然为了使通过刮板之后的调色剂的附着量稳定,该堆积部是必要的,但由于调色剂被陆续汲取上来,对调色剂会施加压缩的力,所以调色剂逐渐凝集,变得不再移动。此外,此时汲取的调色剂如虚线箭头所示,与凝集的调色剂Tc碰撞,一部分返回,由于该碰撞,凝集变得显著。这样,如图14所示,会形成形状为搭在位于虚线的直线所示的平均调色剂面以下的调色剂T之上的宽阔的凝集区域Tz。

像这样,由于调色剂在通过刮板之前的区域中凝集,所以通过刮板的调色剂减少,由此,调色剂层变得不稳定,并且由凝集导致的调色剂劣化进一步加重。

发明内容

本发明的目的在于,提供一种单成分显影方式的显影装置和具有该显影装置的图像形成装置,该显影装置能够在显影辊与进行调色剂层限制的刮板最接近的区域的上游侧,使显影辊与刮板之间不容易发生调色剂的凝集,以提高显影辊上的调色剂层的均匀性,进行低应力(stress)且均匀性优异的显影。

本发明的第一技术方案提供一种单成分显影方式的显影装置,其特征在于,上述显影装置具有显影辊和进行调色剂层限制的刮板,对上述显影辊施加偏置电压,利用调色剂将形成于静电潜像载持体的静电潜像显影,将上述刮板分成包含与上述显影辊最接近的部分的显影辊旋转方向的下游区域、和不包含该与上述显影辊最接近的部分的显影辊旋转方向的上游区域这两个区域,该上游区域中的调色剂与上述刮板的附着力小于上述下游区域中的调色剂与上述刮板的附着力。

第二技术方案的特征在于,在第一技术方案中,上述刮板中,通过使上述上游区域的表面的亲水性高于上述下游区域的表面的亲水性,使上述上游区域中的调色剂与上述刮板的附着力小于上述下游区域中的调色剂与上述刮板的附着力。

第三技术方案的特征在于,在第二技术方案中,上述刮板中,在上述上游区域和上述下游区域为相同材料,通过改变上述上游区域和上述下游区域的表面处理来改变亲水性。

第四技术方案的特征在于,在第三技术方案中,上述刮板中,通过在将上述下游区域遮蔽的状态下进行等离子体表面处理,仅改变上述上游区域的亲水性。

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