[发明专利]薄膜晶体管基板与其所组成的显示装置无效
申请号: | 201110245159.6 | 申请日: | 2011-08-16 |
公开(公告)号: | CN102956646A | 公开(公告)日: | 2013-03-06 |
发明(设计)人: | 宋和璁;林志隆 | 申请(专利权)人: | 奇美电子股份有限公司;群康科技(深圳)有限公司 |
主分类号: | H01L27/12 | 分类号: | H01L27/12;H01L29/786;G02F1/1362;G02F1/1368 |
代理公司: | 上海专利商标事务所有限公司 31100 | 代理人: | 骆希聪 |
地址: | 中国台湾新竹科学工*** | 国省代码: | 中国台湾;71 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 薄膜晶体管 与其 组成 显示装置 | ||
技术领域
本发明是有关于一种基板,且特别是有关于一种薄膜晶体管基板与其所组成的显示装置。
背景技术
液晶显示器(liquid crystal display)由于具有轻、低消耗功率、无辐射等优点,目前已应用于各种个人电脑、个人数字助理(personal digital assistant,PDA)、手机、电视等。
液晶显示器主要由薄膜晶体管(thin film transistor,TFT)基板、彩色滤光片(color filter,CF)基板与形成于两基板之间的液晶层所组成。依照液晶显示器电极的位置摆放差异,又可分成扭转向列型模式(twisted nematic,TN)或横向电场效应模式(in-plane switching,IPS)。
请参见图1,此图为已知横向电场效应模式(in-plane switching,IPS)薄膜晶体管基板的俯视图,薄膜晶体管基板单一像素区100由栅极线(亦可称为扫描线)102、共同线104与垂直于栅极线102的数据线106所组成,其中薄膜晶体管108位于栅极线102之上,像素电极110与共同电极112设计在同一基板(未显示)之上,且因为像素电极110与共同电极112由透明导电材料所组成(像素电极110与共同电极112位于不同的两层,两者电性不导通),因此两者所在区域(虚线区域)为透光区114。
已知技术为了降低反馈通道效应(feed-through effect),将位于漏极150上的漏极接触孔(drain via)185形成于栅极线102与数据线106所定义的区域中(即可透光的区域),然而漏极150由不透光材料组成,因此降低了液晶显示器的可视区114面积。
此外,随着液晶显示器解析度日益提高的同时,漏极接触孔(drain via)185若依然设计于可透光的区域中,会使开口率(Aperture ratio,AR)降低,因此,业界亟需提出一种新的薄膜晶体管基板,以解决上述问题。
发明内容
本发明提供一种薄膜晶体管基板,包括:一基板;一栅极线(gate line)、一栅极绝缘层、一有源层依序形成于基板上;一源极、一漏极同时形成于有源层上,以构成一薄膜晶体管;一绝缘层,形成于薄膜晶体管之上,其该绝缘层中具有一接触孔(via),且接触孔形成于部分漏极与部分有源层之上,以暴露部分漏极与部分有源层;以及一像素电极,形成于接触孔中与绝缘层之上,其中像素电极透过接触孔电性连接至该漏极。
本发明另提供一种薄膜晶体管基板,包括:一基板;一栅极线(gate line)、一栅极绝缘层、一有源层依序形成于基板上;一源极、一漏极形成于有源层上,以构成一薄膜晶体管;一绝缘层,形成于薄膜晶体管之上,其中绝缘层中具有一接触孔(via),且接触孔完全地(totally)形成于栅极线之上,以暴露部分漏极;以及一像素电极形成于接触孔中与绝缘层之上,其中像素电极透过接触孔电性连接至漏极。
本发明亦提供一种显示装置,包括:一薄膜晶体管基板,其包括本发明实施例一~实施例六所述的薄膜晶体管基板;一彩色滤光片基板,其中彩色滤光片基板与薄膜晶体管基板相对设置;一液晶层,形成于薄膜晶体管基板与彩色滤光片基板之间;以及一背光模块,形成于薄膜晶体管基板的远离液晶层的一侧。
附图说明
为让本发明的上述目的、特征和优点能更明显易懂,以下结合附图对本发明的具体实施方式作详细说明,其中:
图1为一俯视图,用以说明已知的薄膜晶体管基板的结构。
图2A~2B为一俯视图与剖面图,用以说明本发明第一实施例的薄膜晶体管基板结构。
图3A-3E为一系列剖面图,用以说明本发明第一实施例的制法。
图4A-4B为一俯视图与剖面图,用以说明本发明第二实施例的薄膜晶体管基板结构。
图5A-5B一俯视图与剖面图,用以说明本发明第三实施例的薄膜晶体管基板结构。
图6A-6B为一俯视图与剖面图,用以说明本发明第四实施例的薄膜晶体管基板结构。
图7A-7B为一俯视图与剖面图,用以说明本发明第五实施例的薄膜晶体管基板结构。
图8A-8B为一俯视图与剖面图,用以说明本发明第六实施例的薄膜晶体管基板结构。
图9为一剖面图,用以说明本发明的显示装置。
主要元件符号说明:
30a~薄膜晶体管区
30b~储存电容区
100~薄膜晶体管基板单一像素区
102~栅极线
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H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L27-00 由在一个共用衬底内或其上形成的多个半导体或其他固态组件组成的器件
H01L27-01 .只包括有在一公共绝缘衬底上形成的无源薄膜或厚膜元件的器件
H01L27-02 .包括有专门适用于整流、振荡、放大或切换的半导体组件并且至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的;包括至少有一个跃变势垒或者表面势垒的无源集成电路单元的
H01L27-14 . 包括有对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射或者微粒子辐射并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或适用于通过这样的辐射控制电能的半导体组件的
H01L27-15 .包括专门适用于光发射并且包括至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的半导体组件
H01L27-16 .包括含有或不含有不同材料结点的热电元件的;包括有热磁组件的