[发明专利]测量掩模板保护膜的工具及方法

说明书

技术领域

    本发明涉及一种半导体工艺，尤其涉及一种测量掩模板保护膜的工具及方法。

背景技术

由于半导体芯片制造业对于不同的工艺需求会使用不同类型的光刻机，再加上制造光刻机的厂家不止一家，因此不同型号的光刻机会使用不同尺寸的掩模板保护膜（附图1中②的窄边尺寸会有不同）。尺寸用错会造成对掩模板或设备的损坏，因此掩模板制造厂家在掩模板出厂时会对使用的保护膜型号进行检查，但是仍然会存在漏检的风险。

目前大部分芯片制造厂对此项目只有进货时的清单检查，没有对实际保护膜尺寸的检查。另外由于不同型号的尺寸只相差数毫米，单靠目测无法发现。现在有个别厂利用掩模板缺陷检查的设备在检查时所拍的照片进行间接的检查，这样多浪费了设备时间和人工，增加了成本而且要花较长的时间。

发明内容

    本发明公开了一种测量掩模板保护膜的工具及方法，用以解决现有技术中由于无法检测保护膜尺寸导致的由于保护膜尺寸错误造成掩模板或设备损坏的问题。

    本发明的上述目的是通过以下技术方案实现的：

    一种测量掩模板保护膜的工具及方法，一掩模板盒具有一盒盖、一底座板和一支架，所述支架固定在底座板上，将一掩模板固定在所述支架上，其中，一测量工具的一侧表面形成有刻度，所述测量工具的另一侧表面具有两直角卡槽，通过两直角卡槽将测量工具固定在底座板上，使测量工具位于掩模板的一侧，且使测量工具与掩模板的一侧边缘平行，以对掩模板的图形保护膜进行测量。

    如上所述的测量掩模板保护膜的工具及方法，其中，所述掩模板包括石英板主体和所述图形保护膜。

    如上所述的测量掩模板保护膜的工具及方法，其中，采用直尺作为所述测量工具。

如上所述的测量掩模板保护膜的工具及方法，其中，将测量工具固所述底座板上使所述测量工具的刻度的零点位置与所述掩模板的中心保持一致。

如上所述的测量掩模板保护膜的工具及方法，其中，所述两直角卡槽垂直安装在所述测量工具上，对两直角卡槽的间距进行调节，使得两直角卡槽与底座板相固定，进而将测量工具固定在底座板上。

    综上所述，由于采用了上述技术方案，本发明测量掩模板保护膜的工具及方法解决了现有技术中由于无法检测保护膜尺寸导致的由于保护膜尺寸错误造成掩模板或设备损坏的问题，通过在掩模板盒上固定测量工具实现掩模板的图形保护膜尺寸的精确测量。

附图说明

通过阅读参照以下附图对非限制性实施例所作的详细描述，本发明及其特征、外形和优点将会变得更明显。在全部附图中相同的标记指示相同的部分。并未刻意按照比例绘制附图，重点在于示出本发明的主旨。

    图1是本发明测量掩模板保护膜的工具及方法的掩模板的结构示意图；

    图2是本发明测量掩模板保护膜的工具及方法的将掩模板固定在掩模板盒后的示意图；

    图3是本发明测量掩模板保护膜的工具及方法的测量工具一侧表面的示意图；

    图4是本发明测量掩模板保护膜的工具及方法的测量工具的另一侧表面的示意图；

    图5是本发明测量掩模板保护膜的工具及方法的将测量工具固定在底座板后的示意图。

具体实施方式

下面结合附图对本发明的具体实施方式作进一步的说明：

    一种测量掩模板保护膜的工具及方法，图2是本发明测量掩模板保护膜的工具及方法的将掩模板固定在掩模板盒后的示意图，清参见图2，一掩模板盒10具有一盒盖101、一底座板102和一支架103，所述支架103固定在底座板102上，盒盖101的一侧变与底座板102的一侧边通过一旋转件连接，将一掩模板20固定在所述支架103上，其中，