[发明专利]一种溅射阳极罩及溅射装置

权利要求书

1.一种溅射阳极罩，该溅射阳极罩设置在真空腔体内部，其特征在于，包括：

阳极罩外壳(1)，该阳极罩外壳(1)具有溅射孔(11)和与该溅射孔(11)垂直的轨道腔(12)；

挡板(2)，该挡板(2)设置在所述轨道腔(12)内，并可沿所述垂直所述溅射孔(11)的方向移动；及

驱动机构，所述驱动机构设置在所述溅射孔(11)底部，且与所述挡板(2)的底面相配合。

2.如权利要求1所述的溅射阳极罩，其特征在于，所述挡板(2)与所述溅射孔(11)相对应的表面为波纹状结构。

3.如权利要求1所述的溅射阳极罩，其特征在于，所述挡板(2)与所述溅射孔(11)相对应的表面为锯齿状结构。

4.如权利要求3所述的溅射阳极罩，其特征在于，所述挡板(2)的数量为两个，分别为第一挡板(2)和第二档板。

5.如权利要求4所述的溅射阳极罩，其特征在于，所述驱动机构包括安装底座、主动轴(31)、从动轴(32)和传送带(33)，其中，所述安装底座设置在所述溅射孔(11)的底部，所述主动轴(31)和从动轴(32)通过轴承并排设置在所述安装底座上，所述传送带(33)设置在所述主动轴(31)和从动轴(32)上，且与两者相配合。

6.如权利要求5所述的溅射阳极罩，其特征在于，所述驱动机构有两个，分别与所述第一档板和所述第二档板相对应。

7.如权利要求6所述的溅射阳极罩，其特征在于，所述从动轴(32)的数量为多个。

8.一种溅射装置，包括真空腔体，其特征在于，还包括权利要求1-7任一项所述的溅射阳极罩，所述溅射阳极罩设置在所述真空腔体内部。

9.如权利要求8所述的溅射装置，其特征在于，所述主动轴(31)伸出至所述真空腔体的外壳(5)的一端设置有摇动手柄(34)。

10.如权利要求9所述的溅射阳极罩，其特征在于，所述主动轴(31)与所述真空腔体的外壳(5)相接触处设置有磁流体密封装置(51)。