[发明专利]评估时钟偏移的方法和装置有效

专利信息
申请号: 201110254111.1 申请日: 2011-08-30
公开(公告)号: CN102955869A 公开(公告)日: 2013-03-06
发明(设计)人: 李恭琼;戴红卫;谈珺;牛佳 申请(专利权)人: 国际商业机器公司
主分类号: G06F17/50 分类号: G06F17/50
代理公司: 北京市中咨律师事务所 11247 代理人: 周良玉;于静
地址: 美国*** 国省代码: 美国;US
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 评估 时钟 偏移 方法 装置
【权利要求书】:

1.一种用于评估时钟偏移的方法,包括:

获取电路中各个时钟树对应的基本时钟偏移;

判断电路中的第一单元和第二单元是否位于同一时钟域中;

响应于第一单元和第二单元位于不同时钟域,将第一单元和第二单元之间的时钟偏移评估为,第一单元和第二单元分别对应的时钟树的基本时钟偏移中较大的一个;

响应于第一单元和第二单元位于同一时钟域,进一步判断第一单元和第二单元是否位于同一电路层级逻辑块中;

响应于第一单元和第二单元位于不同层级逻辑块,将第一单元和第二单元之间的时钟偏移评估为,第一单元和第二单元所在的时钟树的基本时钟偏移加上由不同层级逻辑块引起的时钟偏移。

2.根据权利要求1的方法,其中所述基本时钟偏移与时钟树中包含的时序逻辑单元的物理布局和该时钟树的路径深度相关。

3.根据权利要求1的方法,其中判断电路中的第一单元和第二单元是否位于同一时钟域中以及判断第一单元和第二单元是否位于同一电路层级中均通过查阅该电路对应的网表来执行判断。

4.根据权利要求1的方法,其中第一单元位于电路顶层的逻辑块中,第二单元位于与顶层相隔n个层级的逻辑块中,所述由不同层级逻辑块引起的时钟偏移为,第二单元与电路顶层的逻辑块层级差异引起的时钟偏移。

5.根据权利要求1的方法,其中第一单元和第二单元分别位于与顶层相隔m和n个层级的逻辑块中,所述由不同层级逻辑块引起的时钟偏移为,第一单元和第二单元各自与电路顶层的逻辑块层级差异引起的时钟偏移中的较大的一个。

6.根据权利要求4或5的方法,其中通过公式计算各个单元与电路顶层的逻辑块层级差异引起的时钟偏移,其中CLi是从第i级逻辑块到第i+1级逻辑块的时钟路径所引起的时钟延迟。

7.根据权利要求6的方法,其中CLi通过以下中的至少一项来评估:从第i级逻辑块到(i+1)级逻辑块的路径长度;从第i级逻辑块到第(i+1)级逻辑块的路径中的负载;时钟路径通过各级逻辑块的时钟端口引起的时钟延迟。

8.根据权利要求1的方法,还包括,对评估的时钟偏移引入OCV因子进行修正。

9.一种用于评估时钟偏移的装置,包括:

基本偏移获取模块,配置为获取电路中各个时钟树对应的基本时钟偏移;

时钟域判断模块,配置为判断电路中的第一单元和第二单元是否位于同一时钟域中;

第一评估模块,配置为,响应于第一单元和第二单元位于不同时钟域,将第一单元和第二单元之间的时钟偏移评估为,第一单元和第二单元分别对应的时钟树的基本时钟偏移中较大的一个;

层级判断模块,配置为,响应于第一单元和第二单元位于同一时钟域,判断第一单元和第二单元是否位于同一电路层级逻辑块中;

第二评估模块,配置为,响应于第一单元和第二单元位于不同层级逻辑块,将第一单元和第二单元之间的时钟偏移评估为,第一单元和第二单元所在的时钟树的基本时钟偏移加上由不同层级逻辑块引起的时钟偏移。

10.根据权利要求9的装置,其中所述基本时钟偏移与时钟树中包含的时序逻辑单元的物理布局和该时钟树的路径深度相关。

11.根据权利要求9的装置,其中时钟域判断模块和层级判断模块通过查阅该电路对应的网表来执行判断。

12.根据权利要求9的装置,其中第一单元位于电路顶层的逻辑块中,第二单元位于与顶层相隔n个层级的逻辑块中,所述由不同层级逻辑块引起的时钟偏移为,第二单元与电路顶层的逻辑块层级差异引起的时钟偏移。

13.根据权利要求9的方法,其中第一单元和第二单元分别位于与顶层相隔m和n个层级的逻辑块中,所述由不同层级逻辑块引起的时钟偏移为,第一单元和第二单元各自与电路顶层的逻辑块层级差异引起的时钟偏移中的较大的一个。

14.根据权利要求12或13的装置,其中通过公式计算各个单元与电路顶层的逻辑块层级差异引起的时钟偏移,其中CLi是从第i级逻辑块到第i+1级逻辑块的时钟路径所引起的时钟延迟。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于国际商业机器公司,未经国际商业机器公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201110254111.1/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top