[发明专利]非离子表面活性剂及其制备方法及用途、光刻胶显影液

说明书

技术领域

本发明涉及化学技术领域，尤其涉及一种非离子表面活性剂及其制备方法及用途、光刻胶显影液。

背景技术

光刻技术作为半导体产业的关键技术之一，在半导体加工领域具有非常广泛的应用。以平板显示技术为例，平板显示技术中精细图案的获得，一般是通过光刻技术实现。光刻技术包括光刻胶的曝光、显影等工艺，由于光刻胶在曝光前后在显影液的溶解性能会有不同，因此，进行曝光后，光刻胶的曝光区与未曝光区依赖于溶解性能的不同，分为可溶区和不溶区，可溶区溶于光刻胶显影液，而不溶区留下，即光刻胶可以根据曝光的图形选择性的溶于光刻胶显影液，从而形成需要的图形。而为了获得良好的图案，需要对光刻胶进行高精度的显影，因此对光刻胶显影液的显影性提出更高的要求。

但通常情况下，光刻胶为疏水性，曝光后由于光刻胶的可溶区被不可溶区包围，显影液很难充分接触到可溶区，尤其是两者边缘部分，造成图形边缘的可溶性光刻胶溶解并不充分，图案边缘部分显影性差，使显影液的显影性降低。

现有技术中，为了提高显影液对光刻胶可溶区的溶解性，以提高显影液的显影性，通常在显影液中添加非离子表面活性剂，添加非离子表面活性剂能够改善显影液对光刻胶的润湿性，使曝光后光刻胶的可溶区具有了很好的溶解性。但添加非离子表面活性剂后，显影液对光刻胶的不溶区的溶解性常常也会相应变高，从而导致光刻胶不可溶区的表面和边缘也容易被显影液溶解，造成光刻图形畸变，从而影响显影液的显影性的有效提高。

发明内容

本发明的主要目的在于，提供一种非离子表面活性剂及其制备方法及用途、光刻胶显影液，能够有效提高光刻胶显影液的显影性。

为达到上述目的，本发明采用如下技术方案：

本发明实施例提供了一种非离子表面活性剂，所述非离子表面活性剂为具有结构式1的物质；

结构式1：

在结构式1中：

R₁代表氢、烷基、烷氧基、芳香基或卤素，R₂代表氢、烷基、烷

氧基、芳香基或卤素；

n1为5至20的整数；

n2为4至15的整数；

m1为5至23的整数；

m2为4至18的整数；

m2为4至18的整数。

本发明实施例还提供了一种上述非离子表面活性剂的制备方法，包括：

向四氢呋喃中加入2-溴丙基对苯酚、正丁基锂和三甲氧基硼，进行反应以得到第一生成物；

向四氢呋喃中加入所述第一生成物、苯基溴代乙烯醚、三苯基磷钯、八水合氢氧化钡和甲醇，进行反应以得到所述非离子表面活性剂。

本发明实施例还提供了一种上述非离子表面活性剂用于光刻胶显影液中的用途。

本发明实施例又提供了一种光刻胶显影液，包括碱性物质和去离子水，所述光刻胶显影液还包括非离子表面活性剂，其中所述非离子表面活性剂为上述本发明实施例提供的非离子表面活性剂。

本发明实施例提供的非离子表面活性剂及其制备方法及用途、光刻胶显影液，改善了光刻胶显影液对光刻胶的润湿性，能够使光刻图形边缘整齐，光刻胶无残留，精确性高，显著提高了光刻胶显影液的显影性。

具体实施方式

下面将结合本发明实施例中的附图，对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述。

应当明确，所描述的实施例仅仅是本发明一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本发明保护的范围。

本发明实施例提供的非离子表面活性剂，为具有结构式1的物质；

结构式1：

在结构式1中，R1代表氢、烷基、烷氧基、芳香基或卤素，R2代表氢、烷基、烷氧基、芳香基或卤素；

n1为5至20的整数；

n2为4至15的整数；

m1为5至23的整数；

m2为4至18的整数。

本发明实施例提供的非离子表面活性剂，由于其结构中具有一定数量的含氧基团，因此具有较强的亲水性，在其用于光刻胶显影液时，能够有效改善光刻胶的亲水性，即有效改善光刻胶显影液对光刻胶的润湿性，能够使光刻图形边缘整齐，光刻胶无残留，精确性高，显著提高了光刻胶显影液的显影性。

本发明实施例提供的非离子表面活性剂可通过以下方法制备，通过两步反应制得，包括：