[发明专利]制备CdTe薄膜的方法及热蒸发设备无效

专利信息
申请号: 201110263460.X 申请日: 2011-09-07
公开(公告)号: CN102978572A 公开(公告)日: 2013-03-20
发明(设计)人: 刘志强;蒋猛 申请(专利权)人: 无锡尚德太阳能电力有限公司;四川尚德太阳能电力有限公司
主分类号: C23C14/24 分类号: C23C14/24;C23C14/06;C30B29/48;C30B25/00
代理公司: 中国专利代理(香港)有限公司 72001 代理人: 俞华梁;王忠忠
地址: 214028 江*** 国省代码: 江苏;32
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摘要:
搜索关键词: 制备 cdte 薄膜 方法 蒸发 设备
【说明书】:

技术领域

本申请涉及薄膜太阳能电池领域。更具体来说,本申请涉及制备CdTe薄膜的方法以及热蒸发设备。

背景技术

多年的研究表明CdTe多晶薄膜是一种高效、廉价、稳定的光伏器件材料。CdTe多晶薄膜是直接带隙材料,带隙为4.5eV,具有良好的光电性质和化学性质,因此成为制备高效率、低成本的多晶薄膜太阳能电池的良好吸收层材料。制备CdTe多晶薄膜的技术较多,有近空间升华技术、电沉积、丝网印刷技术、物理气相沉积、元素气相沉积、喷涂热分解技术等,其中,近空间升华技术(CSS)具有沉积速率高、设备简单、生产成本低等优点。

目前,在许多国家,CdTe薄膜太阳能电池已经由实验阶段走向规模工业化生产。据报道,利用近空间升华技术制备的小面积CdTe电池的效率已经达到16%,大面积组件已经达到11%。事实上,CdTe电池的理论效率可达28-29%,还存在着较大的技术提升空间。

在现有技术中,通常采用如下方式来制备CdTe多晶薄膜。如图1所示,在步骤101,首先获得高纯CdTe粉末。然后,如步骤102所示,采用近空间升华法将CdTe粉末沉积在石墨或石英玻璃上以作为源。随后,如步骤103所示,在真空环境下,采用不同的保护气氛,将源沉积在CdS衬底上面。最后,在步骤104中,形成CdTe多晶薄膜。

然而,需要指出的是,现有高纯CdTe粉末的合成方法多是将混合均匀的Te或Cd高纯单质密封在抽了真空的石英瓶内,并进而加热实现合成,最后粉碎成所需要的粉末。由于加热合成这一步骤需要非常严格的环境和过程控制,因此要获得高纯的CdTe粉末价格较高(每公斤在4000元以上),而这成为了降低CdTe电池成本的很大障碍。

因此,需要一种成本更为低廉、改进的制备CdTe薄膜的方法和设备。

发明内容

本申请的目的之一在于提供一种成本更为低廉、改进的制备CdTe薄膜的方法和设备。

根据本申请的一个方面,提供了一种制备CdTe薄膜的方法,包括:准备单质Cd和Te;将所述Cd和Te平铺于热蒸发设备的热蒸发源上;对所述热蒸发源进行加热,以产生Cd蒸汽和Te蒸汽;在所述热蒸发设备内的CdS衬底上形成CdTe薄膜。

可选地,所述方法还包括:在将所述Cd和Te平铺于热蒸发设备的热蒸发源上之前,将所述Cd和Te粉碎。

可选地,所述方法还包括:将粉碎后的Cd和Te按一定比例混合。

可选地,按照CdTe的化学计量比、即Cd/Te摩尔比为1:1的方式将所述Cd和Te混合。

可选地,粉碎后的Cd和Te单质的粒径小于100目。

可选地,将所述Cd和Te均匀地平铺于所述热蒸发源上,平铺面积大于将要在其上形成CdTe薄膜的CdS衬底的面积。

可选地,在对所述热蒸发源进行加热时,使所述CdS衬底和所述热蒸发源之间的距离保持大于3mm。

可选地,在对所述热蒸发源进行加热时,使所述CdS衬底和所述热蒸发源之间的距离保持大于15mm。

可选地,对所述热蒸发源进行加热采用两段式升温方法,所述两段式升温方法包括:先使所述热蒸发源的温度升至100-300摄氏度,保温10-25分钟,然后再升温至500-900摄氏度。

可选地,在蒸发源温度大于600摄氏度时,使所述CdS衬底温度保持为350-450摄氏度。

根据本申请的另一个方面,提供了一种制备CdTe薄膜的热蒸发设备,包括:热蒸发源,在所述热蒸发源上平铺准备好的单质Cd和Te;加热装置,对所述热蒸发源进行加热,以产生Cd蒸汽和Te蒸汽;以及CdS衬底,在所述CdS衬底上形成CdTe薄膜。

与现有技术相比,本申请至少具有如下优点:第一,在本申请中,采用价格较低的单质原料来取代原来的化合物原料,使得成本更为低廉;第二,由于Cd和Te的饱和蒸汽压不同,使用现有技术化合物粉末的方法制备出的源一般为略富碲的源,而本申请中使用单质来制备CdTe薄膜并根据需要调整单质的配比,从而实现富碲、富镉或严格配比的源;第三,本申请直接使用Cd和Te单质来形成CdTe薄膜,省略了现有技术中将CdTe原料沉积在石墨或石英玻璃上作为源这个步骤,并且将原来CdTe原料合成工艺与CdTe薄膜制备工艺结合起来,使得整个工艺流程大为简化。

附图说明

图1是现有技术中制备多晶CdTe薄膜的方法示意图;

图2是根据本申请的一个实施例、制备CdTe薄膜的方法示意图;

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