[发明专利]湿蚀刻装置及方法

权利要求书

1.一种湿蚀刻装置，其特征在于，包括传动装置、承载平台、振动装置及基板固定架；

所述基板固定架与所述振动装置连接；

所述振动装置固定在所述承载平台上，驱动所述基板固定架往复运动；

所述承载平台设置在所述传动装置上，随着所述传动装置的运动而移动。

2.根据权利要求1所述的湿蚀刻装置，其特征在于，所述振动装置为线性马达或者螺旋式马达。

3.根据权利要求1所述的湿蚀刻装置，其特征在于，所述振动装置包括电磁装置，其与所述基板固定架连接，所述电磁装置根据外部电路的控制而产生磁性或磁性消失，驱动基板固定架向靠近或者远离电磁装置的方向运动。

4.根据权利要求1至3中任一项所述的湿蚀刻装置，其特征在于，所述振动装置为多个，间隔分布在所述承载平台上。

5.根据权利要求1至3中任一项所述的湿蚀刻装置，其特征在于，所述基板固定架包括连动杆及固定部，所述连动杆与振动装置的转轴枢接，所述固定部与连动杆连接。

6.根据权利要求5所述的湿蚀刻装置，其特征在于，所述固定部为吸盘或夹子。

7.根据权利要求1所述的湿蚀刻装置，其特征在于，所述承载平台上还设有气浮装置或滚珠。

8.根据权利要求1所述的湿蚀刻装置，其特征在于，所述传动装置为滚轮或传动皮带。

9.一种湿蚀刻方法，其特征在于，包括以下步骤：

将玻璃基板固定在基板固定架上；

控制传动装置运动，带动设置于其上的承载平台移动；

控制振动装置工作，驱动固定在承载平台上的基板固定架进行往复运动。

10.根据权利要求9所述的湿蚀刻方法，其特征在于，执行控制振动装置工作的步骤的同时，还包括：

启动气浮装置。