[发明专利]镜片触控装置及其制程方法有效
申请号: | 201110269450.7 | 申请日: | 2011-09-01 |
公开(公告)号: | CN102968200A | 公开(公告)日: | 2013-03-13 |
发明(设计)人: | 江耀诚;何宽鑫;林清山;廖茂林;黄俊尧;陈志伟;洪博斌 | 申请(专利权)人: | 宸鸿科技(厦门)有限公司 |
主分类号: | G06F3/041 | 分类号: | G06F3/041;G06F3/044 |
代理公司: | 暂无信息 | 代理人: | 暂无信息 |
地址: | 361009 福建省厦*** | 国省代码: | 福建;35 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 镜片 装置 及其 方法 | ||
1.一种镜片触控装置的制程方法,其特征在于.包括以下步骤:
(1)形成一塑料层于一基板上;
(2)形成一触控层于该塑料层上,使该触控层与该塑料层形成一触控薄膜;
(3)分离该触控薄膜与该基板;
(4)切割该触控薄膜以形成多个触控模块;
及
(5)贴合该触控模块与一强化镜片。
2.根据权利要求1所述的镜片触控装置的制程方法,其特征在于.该塑料层为聚亚酰胺(PI)层或聚酯酰亚胺(polyesterimide)层。
3.根据权利要求1所述的镜片触控装置的制程方法,其特征在于.该触控层包括一感应图案,该感应图案由光刻工艺制得。
4.根据权利要求1所述的镜片触控装置的制程方法,其特征在于.更包括一离形层,该离形层是形成于该塑料层与该基板之间,该离形层材料选自硅胶系(silicon-base)或氟系(F-base)化合物。
5.根据权利要求4所述的镜片触控装置的制程方法,其特征在于.该基板与该离形层间的黏力至少是该离形层与该塑料层黏力的三倍。
6.根据权利要求1所述的镜片触控装置的制程方法,其特征在于.该触控薄膜更包括一缓冲层,该缓冲层是形成于该触控层与该塑料层之间,该缓冲层的材料为硅的衍生物或化合物。
7.根据权利要求1所述的镜片触控装置的制程方法,其特征在于.该塑料层厚度小于25微米。
8.根据权利要求1所述的镜片触控装置的制程方法,其特征在于.更包括形成一遮光层于该强化镜片上,其中该遮光层与该触控模块位于于该强化镜片的同一侧。
9.一种镜片触控装置的制程方法,其特征在于.包括以下步骤:
(1)形成一塑料层于一母基板上;
(2)形成一触控层于该塑料层上,使该母基板、塑料层及触控层形成一触控组件;
(3)切割该触控组件以形成多个触控子件;
(4)贴合该触控子件与一强化镜片;及
(5)分离出分割后的母基板。
10.根据权利要求9所述的镜片触控装置的制程方法,其特征在于.该塑料层为聚亚酰胺(PI)层或聚酯酰亚胺(polyesterimide)层。
11.根据权利要求9所述的镜片触控装置的制程方法,其特征在于.该触控层包括一感应图案,该感应图案由光刻工艺制得。
12.根据权利要求9所述的镜片触控装置的制程方法,其特征在于.该触控组件更包括一离形层,该离形层是形成于该塑料层与该母基板之间,该离形层材料选自硅胶系(silicon-base)或氟系(F-base)化合物。
13.根据权利要求9所述的镜片触控装置的制程方法,其特征在于.该触控组件更包括一缓冲层,该缓冲层是形成于该触控层与该塑料层之间,该缓冲层的材料为硅的衍生物或化合物。
14.根据权利要求9所述的镜片触控装置的制程方法,其特征在于.该触控组件包含的该塑料层及触控层组成一触控薄膜。
15.根据权利要求14所述的镜片触控装置的制程方法,其特征在于.该触控子件包括该子基板与一触控模块,其中该触控模块是由该触控薄膜切割后所形成。
16.根据权利要求15所述的镜片触控装置的制程方法,其特征在于.步骤(4)的贴合是由该触控子件的触控模块贴合于该强化镜片。
17.根据权利要求15所述的镜片触控装置的制程方法,其特征在于.更包括形成一遮光层于强化镜片上,其中该遮光层与该触控模块位于于该强化镜片的同一侧。
18.一种镜片触控装置,包括:
一强化镜片;及
一触控模块,贴合于该强化镜片,该触控模块是由一触控薄膜切割而成,该触控薄膜包含一触控层与一塑料层,其中,该塑料层具有厚度小于25微米。
19.根据权利要求18所述的镜片触控装置,其特征在于.该塑料层的厚度为10微米-20微米。
20.根据权利要求18所述的镜片触控装置,其特征在于.该塑料层为聚亚酰胺(PI)层或聚酯酰亚胺(polyesterimide)层。
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