[发明专利]用于合成射流冷却的方法和系统无效

专利信息
申请号: 201110296352.2 申请日: 2011-09-23
公开(公告)号: CN102421275A 公开(公告)日: 2012-04-18
发明(设计)人: J·J·斯特里尔 申请(专利权)人: 通用电气航空系统有限责任公司
主分类号: H05K7/20 分类号: H05K7/20
代理公司: 中国专利代理(香港)有限公司 72001 代理人: 严志军;杨炯
地址: 美国密*** 国省代码: 美国;US
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摘要:
搜索关键词: 用于 合成 射流 冷却 方法 系统
【权利要求书】:

1.一种合成射流冷却系统(100),包括多个合成射流组件(102),所述多个合成射流组件(102)配置成邻接于产生过剩热的构件(104)而定位,所述多个合成射流组件中的各个合成射流组件包括驱动器(116),所述驱动器(116)配置成在变化的频率激励所述多个合成射流组件中的相应的一个。

2.根据权利要求1所述的合成射流冷却系统(100),其特征在于,所述多个合成射流组件(102)中的各个合成射流组件包括至少一个合成射流喷射器(106),所述合成射流喷射器(106)包括压电致动器(118),所述致动器配置成进行振动,从而产生流体的流。

3.根据权利要求1所述的合成射流冷却系统(100),其特征在于,所述驱动器(116)配置成在随机变化的频率激励所述多个合成射流组件(102)中的相应的一个。

4.根据权利要求1所述的合成射流冷却系统(100),其特征在于,所述驱动器(116)配置成在伪随机变化的频率激励所述多个合成射流组件(102)中的相应的一个。

5.根据权利要求1所述的合成射流冷却系统(100),其特征在于,所述驱动器(116)配置成在线性变化的频率激励所述多个合成射流组件(102)中的相应的一个。

6.根据权利要求1所述的合成射流冷却系统(100),其特征在于,所述驱动器(116)配置成在变化于第一界限和第二界限之间的频率激励所述多个合成射流组件(102)中的相应的一个,所述第一界限大于所述第二界限。

7.根据权利要求1所述的合成射流冷却系统(100),其特征在于,所述多个合成射流组件(102)中的各个合成射流组件包括至少一个合成射流喷射器(106),所述合成射流喷射器(106)包括射流端口(108),所述射流端口以垂直、平行以及倾斜中的至少一种方式与所述构件的表面(110)对齐。

8.根据权利要求1所述的合成射流冷却系统(100),其特征在于,所述构件(104)包括与所述构件的所述表面(110)一体地形成的合成射流组件壳体。

9.根据权利要求1所述的合成射流冷却系统(100),其特征在于,所述合成射流组件(102)包括被封入单个壳体中的多个合成射流喷射器(106)。

10.根据权利要求1所述的合成射流冷却系统(100),其特征在于,所述合成射流组件(102)包括能够联接至所述构件(104)的所述表面(110)的单个壳体。

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