[发明专利]晶圆背面清洁设备以及晶圆背面清洁方法

权利要求书

1.一种晶圆背面清洁设备，并入光阻涂布设备，其特征在于包括：布置在晶圆 下方的气体发射喷射器（11），所述气体发射喷射器（11）配置有朝向晶圆下表 面的喷气嘴（44），用于向晶圆下表面喷射气体（33）；沿晶圆半径方向布置的 移动轨道（22），其中所述气体发射喷射器（11）布置在所述移动轨道（22）上， 以便在晶圆半径方向上移动；布置在晶圆下方的背部清洗器（3），用于向晶圆 下表面喷射有机溶剂（2）；其中所述气体发射喷射器（11）和所述背部清洗器 （3）相对于晶圆中心对称布置。

2.一种晶圆背面清洁方法，在执行光阻涂布的同时执行所述晶圆背面清洁方法， 其特征在于包括：在晶圆下方布置气体发射喷射器（11），并利用所述气体发射 喷射器（11）的朝向晶圆下表面的喷气嘴（44）向晶圆下表面喷射气体（33）； 将所述气体发射喷射器（11）布置在沿晶圆半径方向布置的移动轨道（22）上， 以便在晶圆半径方向上移动；在晶圆下方布置背部清洗器（3），以便向晶圆下 表面喷射有机溶剂（2），其中使所述气体发射喷射器（11）和所述背部清洗器 （3）相对于晶圆中心对称布置。