[发明专利]一种用于太阳电池生产过程中去除花篮印的清洗方法

说明书

技术领域

本发明涉及一种用于太阳电池生产过程中去除花篮印的清洗方法，属于太阳电池技术领域。

背景技术

花篮印是指在去磷硅玻璃过程中硅片表面容易附着一层水溶氧与花篮接触形成的再次氧化，镀膜后会产生较明显的暗白色花篮状的印记，这印记对成品的外观影响很大。

传统的二次清洗工艺在清洗磷硅玻璃之后需要脱水处理，目前主流的方法有甩干和经过纯水槽的慢提拉处理后烘干两种方法。机械甩干能有效的去除硅片表面的水滴，但碎片率较高；而慢提拉处理能大大降低碎片率及硅片的机械损伤，但在大规模生产中，采用慢提拉处理的硅片表面容易附着一层水溶氧后与花篮接触形成的再次氧化的花篮印，镀膜后会产生明显的暗白色花篮状印记，对成品的外观影响很大。

本发明是使用将异丙醇和氢氟酸混合去除花篮印的二次清洗工艺，在硅片表面吸附一层异丙醇保护层隔绝纯水、氧气与硅片的接触，有效的去除去磷硅过程中产生的花篮印，降低生产过程中B类片(因各种原因导致外观不合格的电池片)的产生，并保证对后续工艺及最终电池片性能无影响。

现有技术的缺点是：机械甩干能有效的去除硅片表面的水滴，但碎片率较高；采用慢提拉处理的硅片容易产生花篮印。

发明内容

为了克服现有技术结构的不足，本发明提供一种用于太阳电池生产过程中去除花篮印的清洗方法，本发明的目的是去除去磷硅过程中产生的花篮印，降低生产过程中B类片的产生，并保证对后续工艺及最终电池片性能无影响。

本发明解决其技术问题所采用的技术方案是：一种用于太阳电池生产过程中去除花篮印的清洗方法，在硅片表面吸附一层异丙醇保护层隔绝纯水、氧气与硅片的接触，去除去磷硅过程中产生的花篮印。

本发明降低生产过程中B类片的产生，并保证对后续工艺及最终电池片性能无影响。

本发明的目的通过以下技术措施予以实现：

一种用于太阳电池生产过程中去除花篮印的清洗方法，将异丙醇和氢氟酸混合去除花篮印，含有以下步骤：

(1)1号槽(去磷硅槽)步骤：在槽中加入氢氟酸和异丙醇；异丙醇加和氢氟酸的重量配比为：氢氟酸8L-12L，异丙醇4L-8L，在循环反应时间为：120-300秒的作用下，去除硅片表面的磷硅玻璃，并在硅片表面吸附一层异丙醇保护层，隔绝纯水、氧气与硅片的接触；

(2)2号槽(快排槽)步骤：在大花篮放入槽内后，上下喷淋开始喷淋，当机械臂将处于槽内的大花篮挂臂上提时，随即马上进行自动快排；通过纯水的张力及吸附力，以及异丙醇和氢氟酸在纯水中溶解度不同，将从一号槽步骤带出的HF(无色透明发烟液体，为氟化氢气体的水溶液，呈弱酸性，有刺激性气味)在二号槽步骤得到及时处理；

(3)大花篮通过去磷硅设备下料后，取小花篮放入烘干箱8-10min，烘干温度为80-90℃，异丙醇保护层通过烘干可去除干净。

大花篮(大花篮是用来装4个小花篮的，方便在机械手每一次提拉都能生产更多的硅片，大花篮长和宽是小花篮的两倍，高度与小花篮一致，这样能装下四个小花篮)

小花篮(小花篮是用来装硅片的，每个小花篮装50片硅片，装好硅片后，再把小花篮装进大花篮并固定好，就可以开始生产，小花篮的长和宽为大花篮的二分之一，与大花篮高度一致)

本发明的有益效果是降低了制程中的不良率。本发明与现有技术比较能有效的去除去磷硅过程中产生的花篮印，降低生产过程中B类片的产生，并保证对后续工艺及最终电池片性能无影响。

附图说明

当结合附图考虑时，通过参照下面的详细描述，能够更完整更好地理解本发明以及容易得知其中许多伴随的优点，但此处所说明的附图用来提供对本发明的进一步理解，构成本发明的一部分，本发明的示意性实施例及其说明用于解释本发明，并不构成对本发明的不当限定，其中：

图1为本发明的方法示意图。

下面结合附图和实施例对本发明进一步说明。

具体实施方式

显然，本领域技术人员基于本发明的宗旨所做的许多修改和变化属于本发明的保护范围。

实施例1：如图1所示，

本发明的目的是使用将异丙醇和氢氟酸混合去除花篮印的二次清洗工艺方法，在硅片表面吸附一层异丙醇保护层隔绝纯水、氧气与硅片的接触，有效的去除去磷硅过程中产生的花篮印，降低生产过程中B类片的产生，并保证对后续工艺及最终电池片性能无影响。

本发明的目的通过以下技术措施予以实现：

一种将异丙醇和氢氟酸混合去除花篮印的二次清洗方法，

含有以下步骤：