[发明专利]一种对称式折反射光学系统有效
| 申请号： | 201110303136.6 | 申请日： | 2011-10-10 |
| 公开（公告）号： | CN103033915A | 公开（公告）日： | 2013-04-10 |
| 发明（设计）人： | 郭银章;武珩;徐涛 | 申请（专利权）人： | 上海微电子装备有限公司 |
| 主分类号： | G02B17/08 | 分类号： | G02B17/08;G03F7/20 |
| 代理公司： | 北京连和连知识产权代理有限公司 11278 | 代理人： | 王光辉 |
| 地址： | 201203 上海市浦*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 一种 对称 反射 光学系统 | ||
1. 一种用于光刻曝光系统的对称式折反射光学系统，其特征在于沿光线传播方向依次包括：物面；一第一反射镜；一第一透镜组；一光阑；一第二透镜组；一第二反射镜；像面；其中，所述各光学元件在同一光轴上，且光阑前、后的光学系统相对于光阑的中心对称。
2.如权利要求1所述的光学系统，其中，所述光学系统成像最大视场与所述透镜组的数值孔径之比大于1:1。
3.如权利要求1所述的光学系统，其中，所述第一反射镜和第二反射镜为凹面反射镜，且曲率半径相等。
4.如权利要求1所述的光学系统，其中，所述第一透镜组沿光线传播方向依次包括第一透镜，第二透镜，所述第二透镜组沿光线传播方向依次包括第三透镜，第四透镜，所述第一透镜为弯月透镜，所述第二透镜为正透镜，所述第三透镜为正透镜，所述第四透镜为弯月透镜。
5.如权利要求4所述的光学系统，其中，所述第一透镜和第四透镜所用材料为PBL7Y，所述第二透镜和第三透镜所用材料为氟化钙CAF2。
6.如权利要求1所述的光学系统，其中，所述各光学元件的各光学表面是球面或非球面。
7.如权利要求1所述的光学系统，其中，所述光学系统形成环形视场的狭缝径向宽度不小于5mm。
8.如权利要求1所述的光学系统，其中，所述第一透镜组和第二透镜组中的透镜所用材料为氟化钙CAF2。
9.如权利要求1所述的光学系统，其中，所述光学系统放大倍率为1:1。
10.如权利要求1所述的光学系统，其中，所述光学系统的像方数值孔径为0.1。
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