[发明专利]一种对称式折反射光学系统

说明书

技术领域

本发明涉及半导体制造技术领域，具体地涉及一种用于光刻装置的大视场对称式折反射光学系统。

背景技术

LCD显示器，LED显示器等平板显示器FPD的制作，涉及与集成电路(IC)工业类似的制作工艺，把掩模板的图形通过曝光系统成像，使涂在基板上的光刻胶曝光，再处理已曝光的基板就得到电路图形，再使基板与其它部件集成，就能得到平板显示屏。

传统的制作FPD的方法，例如美国专利US5710619，US4769680是采用拼接成像的技术，虽然显示器的尺寸达到了18英寸，但成品率，产率和拼接相邻电路之间的对准问题使得生产出来的FPD成本很高。

在中国专利CN1577102A中，设计放大率1倍的用于42寸,54寸,60寸平板显示器FPD生产的光学系统，采用了折反射式结构，由包含第一反射镜，第二反射镜的主反射镜，和附反射镜，以及放在物方和像方的各一组折射校正单元组成， 在此专利中用于补偿像差的折射校正单元是放到主反射镜和基板或掩模之间，并且像方是圆环弧型视场，此专利补偿折射单元镜片的口径将接近于视场的大小， 比如要制作42寸的FPD，相当于视场525mm, 所以射单元镜片的口径将接近于525mm，折射校正单元透射和视场的比值约为1：1。但FPD自从1980年投产以来，对屏的尺寸要求越来越大， 42寸,54寸,60寸或更大尺寸，那么补偿折射单元的尺寸也要越来越大，但是这样的大尺寸的折射元件是难于加工的，且均匀性能满足需求的材料也难于寻找。

发明内容

本发明的目的在于克服上述现有技术的缺陷，提出一种能够减小折射元件的尺寸，从而降低成本及加工难度的大视场对称式折反射光学系统。

本发明是一种视场较大，采用对称式折反射设计，用于光刻曝光系统，其特征在于沿光线传播方向依次包括：物面；第一反射镜；第一透镜组；一光阑；第二透镜组；第二反射镜；像面；其中，所述各光学元件在同一光轴上，且光阑前、后的光学系统相对于光阑对称。

其中，所述光学系统成像最大视场与所述透镜组的数值孔径之比大于1:1。

其中，所述第一反射镜和第二反射镜为凹面反射镜，且曲率半径相等。

其中，所述第一透镜组沿光线传播方向依次包括第一透镜，第二透镜，所述第二透镜组沿光线传播方向依次包括第三透镜，第四透镜，所述第一透镜为弯月透镜，所述第二透镜为正透镜，所述第三透镜为正透镜，所述第四透镜为弯月透镜。

其中，所述第一透镜和第四透镜所用材料为PBL7Y，所述第二透镜和第三透镜所用材料为氟化钙CAF2。

其中，所述各光学元件的各光学表面是球面或非球面。

其中，所述光学系统形成环形视场的狭缝径向宽度不小于5mm。

其中，所述第一透镜组和第二透镜组中的透镜所用材料为氟化钙CAF2。

其中，所述光学系统放大倍率为1:1。

其中，所述光学系统的像方数值孔径为0.1。

本发明的大视场对称式折反射光学系统，是满足ghi三线，双远心对称式的1倍折反射式投影物镜，满足实际产品需求。同时相对于以上背景技术，由于采用对称式设计，垂轴像差，慧差，畸变，倍率色差接近零；用于补偿的折射镜组位于两主反射镜中间的光阑附近，所以有效减小了折射元件的口径，折射元件的口径和视场的比值做到了将近1：2，从而有效地控制了成本和加工难度。 

附图说明

关于本发明的优点与精神可以通过以下的发明详述及所附图式得到进一步的了解。

图1为本发明光学系统第一实施例结构示意图；

图2为本发明光学系统第二实施例结构示意图；

图3为本发明光学系统圆弧环状视场示意图；

图4为本发明光学系统圆弧环状视场扫描曝光示意图。 

具体实施方式

下面结合附图详细说明本发明的具体实施例。

实施例1

图1所示为本发明光学系统第一实施例结构示意图。在这个实施例中，光学系统100可以满足g、h、i三线，沿光线传播方向依次设置：将掩模图形从物平面102经过光学系统100传送到像平面106，光学系统100包括第一反射镜110，第一透镜组112，第二透镜组114和第二反射镜116。在此折反射镜组中，所有的反射镜和透射镜都关于光阑104中心对称，成像光学系统100能提供NA为0.1的数值孔径，成像质量和视场能满足32寸FPD屏的需求，物方、像方工作距离为821.4mm。