[发明专利]刚性印制电路板喷印负压供墨系统和方法无效

专利信息
申请号: 201110307634.8 申请日: 2011-10-10
公开(公告)号: CN102442077A 公开(公告)日: 2012-05-09
发明(设计)人: 李宝;阮伟明;朱浩;殷胜利;王中凯 申请(专利权)人: 江苏锐毕利实业有限公司
主分类号: B41J2/175 分类号: B41J2/175
代理公司: 上海金盛协力知识产权代理有限公司 31242 代理人: 解文霞
地址: 224056 江苏省盐城市高*** 国省代码: 江苏;32
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摘要:
搜索关键词: 刚性 印制 电路板 喷印负压供墨 系统 方法
【说明书】:

技术领域

发明涉及刚性印制电路板喷印设备,具体涉及用于刚性印制电路板喷印设备的一种负压供墨系统和方法。

背景技术

刚性印制电路板喷印设备属于一种喷墨系统,在喷墨系统中,供墨系统是一项关键技术,它提供的负压的大小及稳定性将直接影响系统喷墨的质量。

现有刚性印制电路板喷印供墨方式为液位差虹吸供墨方式,墨盒高度低于喷头高度,利用喷头和墨盒之间的液位差形成喷头处的墨水负压保持状态。

目前主要问题:1供墨系统内的墨水压力处于大气压常压状态,无法装载管路真空除气装置,使得管路内易形成气泡,导致喷头处的墨水负压保持不稳,影响供墨稳定性;2因该供墨方式原理所限定,墨盒安装位置在垂直于水平面方向将低于喷头位置,所以,必须将墨盒安装于喷印机工作台运动范围以外,导致墨管过长,供墨阻尼加大,影响供墨稳定性。

发明内容

本发明提供了一种负压供墨系统和方法,克服了传统供墨方法中管路易形成气泡,喷头负压不稳的问题。

本发明是通过以下技术方案来实现的。

本发明的一种负压供墨系统包括真空泵、真空发生器、墨盒、喷头、供墨泵和墨水瓶;

所述墨盒包括盒体、通气口、出墨口、供墨口和浮子开关,所述通气口位于所述盒体上部,所述出墨口位于所述盒体下部,所述供墨口位于所述盒体中部,与所需液位基本持平,所述浮子开关设置在盒体内;

所述真空泵的吸气口与空气相通,真空泵的排气口与所述真空发生器的供气口相连,所述真空发生器的真空口与所述通气口相连,所述出墨口与所述喷头相连,所述喷头位于所述墨盒下方,所述供墨泵的出口与所述供墨口相连,所述墨水瓶与所述供墨泵的入口相连;

所述墨盒是封闭的;

以上装置通过管路连接。

本发明的一种负压供墨方法包括以下步骤:

启动供墨泵向头墨盒供墨,头墨盒内的浮子开关控制供墨泵使头墨盒内墨水液位稳定;

喷头喷嘴的墨水距头墨盒内墨水的液位差稳定在H,头墨盒内所需真空度为P,且P=-0.01H;

启动真空泵和真空发生器,调节真空泵工作电流使头墨盒内达到所需真空度;

喷头驱动工作,墨水稳定喷出;

所述液位差H选自60~400mm,优选200~300mm,相应的真空度P选自-0.6~-4kPa,优选-2~-3kPa;

所述供墨泵的墨水流速选自300~450ml/min。

本发明提供的一种负压供墨系统和方法,利用墨水自身重力和真空发生器产生的真空度维持喷头处负压状态,通过头墨盒内墨水液位及真空度的控制保证喷头处的稳定负压。与传统的负压供墨系统相比具有墨路短,供墨稳定性高等特点。

附图说明

图1为本发明的一种负压供墨系统的结构示意图。

具体实施方式

如图1所示,本发明的负压供墨系统包括真空泵1、真空发生器2、墨盒3、喷头4、墨水瓶5、供墨泵6和过滤器7;

所述墨盒3包括盒体31、通气口32、出墨口33、供墨口34和浮子开关35,所述通气口32位于所述盒体31上部,所述出墨口33位于所述盒体31下部,所述供墨口34位于所述盒体31中部,与所需液位基本持平,所述浮子开关35设置在盒体31内;

所述真空泵1的吸气口与空气相通,所述真空泵1的排气口与所述真空发生器2的供气口相连,所述真空发生器2的真空口与所述通气口32相连,所述出墨口33与所述喷头4相连,所述喷头4位于所述墨盒3下方,所述供墨口34与所述过滤器7相连,所述过滤器7与所述供墨泵5出口相连,所述墨水瓶6与所述供墨泵5入口相连;

所述墨盒3是封闭的;

以上装置通过管路连接。

依照上述实施例,本发明的负压供墨方法包括以下步骤:

启动供墨泵向墨盒供墨,墨盒内的浮子开关控制供墨泵使墨盒内墨水液位稳定;

喷头的墨水距墨盒内墨水的液位差稳定在300,头墨盒内所需真空度为-3kPa;

启动真空泵和真空发生器,调节真空泵工作电流使头墨盒内达到-3kPa;喷头驱动工作,墨水稳定喷出;

所述供墨泵的墨水流速为350ml/min;

所述真空泵选自最大工作真空-26.7kPa,最大工作电流0.5A。

以上所述,仅为本发明的具体实施方式,但本发明的保护范围并不局限于此,任何熟悉本技术领域的技术人员在本实用新型揭露的技术范围内,可轻易想到变化或替换,都应涵盖在本发明的保护范围之内。因此,本发明的保护范围应以权利要求的保护范围为准。

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