[发明专利]光刻装置和器件制造方法

权利要求书

1.一种光刻投影装置，包括：

配置成保持基底的基底台；

配置成把带图案的辐射光束投影到基底上的投影系统；

液体限制结构，所述液体限制结构被配置成把液体限制在空间中，所述空间为投影系统与基底、基底台或上述两者之间的空间，基底、基底台或上述两者配置成形成所述空间的边界的一部分；以及

致动的封闭板，该封闭板配置成当基本上未扰动液体、液体限制结构或上述两者而移动时，替代基底、基底台或上述两者构成所述空间的边界的一部分，其中，所述封闭板被定位或成形以使得致动的封闭板的顶面大体上与基底台处于相同的高度，使得当基底台远离投影系统下方的位置移动时，可以进行连续的、没有干扰的移动，同时保持使液体包含在液体限制结构中的密封，在用干涉计测量光束的过程中不挡住干涉计装置的任何干涉计光束；

其中，所述致动的封闭板和所述基底台设置为当所述致动的封闭板水平地移动到投影系统下方的位置从而替换所述基底台，所述基底台被构造并且设置为水平地远离投影系统下方的位置。

2.如权利要求1所述的装置，包括致动装置，所述致动装置配置成在水平面移动所述封闭板。

3.如权利要求2所述的装置，其中所述致动装置配置成在与基底、基底台或上述两者相同的平面中移动所述封闭板，以便所述封闭板跟随基底、基底台或上述两者越过所述液体限制结构。

4.如权利要求1所述的装置，其中，所述基底台包括有源补偿器，所述有源补偿器被配置成补偿由于用封闭板替换基底、基底台或上述两者作为空间边界的一部分而沿与基底台移动方向垂直的方向作用在基底台上的负荷变化。

5.如权利要求1所述的装置，其中基底台和封闭板可释放地耦合。