[发明专利]透光性光电模块及其制造方法以及包括该模块的多层玻璃有效
申请号: | 201110314232.0 | 申请日: | 2011-10-17 |
公开(公告)号: | CN102479858A | 公开(公告)日: | 2012-05-30 |
发明(设计)人: | 明承烨 | 申请(专利权)人: | 韩国铁钢株式会社 |
主分类号: | H01L31/048 | 分类号: | H01L31/048;E04D13/18;E06B3/66 |
代理公司: | 北京万慧达知识产权代理有限公司 11111 | 代理人: | 杨颖;张一军 |
地址: | 韩国庆*** | 国省代码: | 韩国;KR |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 透光 光电 模块 及其 制造 方法 以及 包括 多层 玻璃 | ||
1.一种透光性光电模块,该模块包括:
第一透光性基板;
第二透光性基板;
第一透光性电极和第二电极,位于所述第一透光性基板和所述第二透光性基板之间;
光活性层,位于所述第一透光性电极和所述第二电极之间,并且进行光电转换;
保护层,位于所述第二电极和所述第二透光性基板之间;并且,
朝向所述第一透光性基板的所述第二透光性基板的表面上形成有三维光子晶体结构层。
2.根据权利要求1所述的透光性光电模块,其特征在于,所述三维光子晶体结构层包括反蛋白石结构。
3.根据权利要求2所述的透光性光电模块,其特征在于,所述三维光子晶体结构层反射波长为400~1100nm的光。
4.根据权利要求2所述的透光性光电模块,其特征在于,所述三维光子晶体结构层的介电常数为2.0~6.25。
5.根据权利要求2所述的透光性光电模块,其特征在于,所述三维光子晶体结构层的体积填充率为10~26%。
6.根据权利要求2所述的透光性光电模块,其特征在于,所述三维光子晶体结构层包括ZnO、IZO、ITO和石墨烯中的至少一种。
7.根据权利要求2所述的透光性光电模块,其特征在于,所述保护层和所述三维光子晶体结构层相互接触,所述保护层的一部分填充所述三维光子晶体结构层的空的空间。
8.根据权利要求2所述的透光性光电模块,其特征在于,所述三维光子晶体结构层包括1~50层的反蛋白石层。
9.一种透光性光电模块的制造方法,该方法包括:
第一透光性基板的准备步骤;
所述第一透光性基板上形成包括胶体粒子的蛋白石模具的步骤;
用反转物质填充所述蛋白石模具的所述胶体粒子之间的间隙的步骤;
除去所述蛋白石模具,以便在所述第一透光性基板上形成反蛋白石结构的步骤。
10.根据权利要求9所述的透光性光电模块的制造方法,其特征在于,还包括,依次形成有第一透光性电极、形成在所述第一透光性电极上且进行光电转换的光活性层、形成在所述光活性层上的第二电极、形成在所述第二电极上的保护层的第二透光性基板上层压形成有所述反蛋白石结构的第一透光性基板的步骤,所述反蛋白石结构按照与所述保护层接触的方式被层压。
11.根据权利要求9或10所述的透光性光电模块的制造方法,其特征在于,所述第一透光性基板的准备步骤包括对所述反蛋白石结构所要形成的所述第一透光性基板的表面进行湿式洗涤或干式洗涤的步骤。
12.根据权利要求9或10所述的透光性光电模块的制造方法,其特征在于,所述胶体粒子包括单分散高分子胶体、SiO2胶体、TiO2胶体和Al2O3胶体粒子中的至少一种。
13.根据权利要求9或10所述的透光性光电模块的制造方法,其特征在于,所述胶体粒子的直径为200~500nm。
14.根据权利要求9或10所述的透光性光电模块的制造方法,其特征在于,所述蛋白石模具的形成步骤包括1~50个胶体粒子层的形成步骤。
15.根据权利要求9或10所述的透光性光电模块的制造方法,其特征在于,所述蛋白石模具的形成步骤包括通过喷雾法、丝网印刷法、溶胶-凝胶法、喷墨印刷法、激光印刷法或凹版印刷法将包括所述胶体粒子的胶体涂布在所述透光性基板上的步骤。
16.根据权利要求9或10所述的透光性光电模块的制造方法,其特征在于,所述蛋白石模具的形成步骤之后还包括在60~120℃的温度条件下将所述蛋白石模具进行热处理的步骤。
17.根据权利要求9或10所述的透光性光电模块的制造方法,其特征在于,填充所述间隙的步骤将包括所述反转物质的反应气体通过化学气相沉积法或原子层沉积法流入到所述蛋白石模具内。
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H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
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H01L31-04 .用作转换器件的
H01L31-08 .其中的辐射控制通过该器件的电流的,例如光敏电阻器
H01L31-12 .与如在一个共用衬底内或其上形成的,一个或多个电光源,如场致发光光源在结构上相连的,并与其电光源在电气上或光学上相耦合的