[发明专利]样品检验系统以及使用所述样品检验系统检验样品的方法

说明书

相关申请案的交叉参考

本申请案主张2010年10月21日申请的韩国专利申请案第10-2010-0103101号的优先权以及其根据35U.S.C.§119的规定得到的所有权利，所述申请案的内容以全文引用方式并入本文中。

技术领域

本发明涉及一种样品检验系统以及一种使用所述样品检验系统检验样品的方法，且更明确地说，涉及一种用于精确地检验样品的样品检验系统以及一种使用所述样品检验系统检验样品的方法。

背景技术

对于有效率的发光二极管(LED)来说，高光提取效率(发光效率)以及高内部量子效率为必要的。因此，一般来说，在衬底上形成多个2到3微米的凸-凹结构以通过所述凸-凹结构所致的光的折射以及不规则反射来改善光提取效率。可使用各种凸-凹结构(例如，半球形或角锥形凸-凹结构)。

LED的发光效率很大程度上根据凸-凹结构的特征而变化。举例来说，LED的发光效率是通过凸-凹结构的缺陷、大小以及形状来确定。因此，当使用衬底来制造LED时，在于衬底上形成LED之前，先在衬底上形成凸-凹结构，且分析所述凸-凹结构的特征，例如，缺陷、形状以及大小。

一般来说，使用光学系统来分析凸-凹结构，此是因为可在不切割样品的情况下获得三维图像。光学系统的实例包括共聚焦显微镜(confocal microscope)、白光扫描干涉仪(white light scanning interferometer，WSI)、相移干涉仪(phase shifting interferometer，PSI)、莫阿检验系统(Moire inspection system)以及斐索干涉仪(Fizeau interferometer)。共聚焦显微镜、WSI、PSI以及斐索干涉仪具有约1纳米或低于1纳米的良好分辨率。然而，由于光学畸变，难以检验边缘或点形表面。举例来说，在形成有2到3微米的凸-凹结构的衬底的情况下，难以准确地观测到所述凸-凹结构的轮廓以提取信息(例如，缺陷的种类、数目以及大小)。此外，在形成有具有尖锐部分(例如，角锥形)的凸-凹结构的衬底的情况下，由于所述尖锐部分处的光学畸变，难以用光学系统检验所述衬底。因此，如图5(b)中所显示，在捕捉的图像上，可能切割了凸-凹结构的一些部分。即，尽管凸-凹结构是有缺陷的，但是难以准确地观测到并确定缺陷。另外，尽管在观测到有缺陷的凸-凹结构的情况下有必要修改凸-凹结构形成工艺，但是可能难以适当地修改凸-凹结构形成工艺，此是因为难以准确地观测到有缺陷的凸-凹结构。此情形可能会降低LED制造工艺的合格率。

发明内容

本发明提供一种能够精确地检验样品的样品检验系统以及一种使用所述系统检验样品的方法。

本发明还提供一种能够精确地检验具有尖锐部分的样品的样品检验系统以及一种使用所述系统检验样品的方法。

本发明还提供一种包括光学显微镜以及扫描电子显微镜的检验系统，以及一种使用所述系统检验样品的方法。

根据示范性实施例，一种检验系统包括：第一光学检验装置，其用以在宏观级或中观(meso)级下放大并观测样品；第二光学检验装置，其与所述第一光学检验装置通信且用以在微观级下放大并观测样品；扫描电子检验装置，其与所述第一光学检验装置以及所述第二光学检验装置通信且用以通过用电子束扫描样品而放大并观测所述样品；以及机器人臂，其用以将样品携带到所述第一光学检验装置、所述第二光学检验装置以及所述扫描电子检验装置。

所述扫描电子检验装置可从样品捕捉三维图像。

所述检验系统可进一步包括：第一载台(stage)，其安置于对应于所述第一光学检验装置的下侧的位置处以用于支撑样品；第二载台，其安置于对应于所述第二光学检验装置的下侧的位置处以用于支撑样品；以及第三载台，其安置于对应于所述扫描电子检验装置的下侧的位置处。

所述检验系统可进一步包括用以水平地移动所述第一载台到所述第三载台的第一可水平移动部件到第三可水平移动部件。