[发明专利]样本引入装置、样本引入基片和样本引入方法无效
申请号: | 201110323842.7 | 申请日: | 2011-10-21 |
公开(公告)号: | CN102564921A | 公开(公告)日: | 2012-07-11 |
发明(设计)人: | 胜本洋一 | 申请(专利权)人: | 索尼公司 |
主分类号: | G01N15/10 | 分类号: | G01N15/10;G01N15/12 |
代理公司: | 北京康信知识产权代理有限责任公司 11240 | 代理人: | 余刚;吴孟秋 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 样本 引入 装置 方法 | ||
1.一种样本引入装置,包括:
用于使传送细胞的载液通过的流道;以及
与所述流道相通的狭孔,所述狭孔允许单个细胞通过,并使含所述细胞的样本液流入所述流道。
2.根据权利要求1所述的样本引入装置,还包括:
压力控制单元,被构造为控制用于使所述载液通过的压力,从而调节所述载液通过所述流道的流速,并且调节所述样本液穿过所述狭孔流入所述流道的流速。
3.根据权利要求2所述的样本引入装置,还包括:
测定单元,被构造为包括在所述狭孔的位置处产生交流电场的第一电极对,所述测定单元将交流电压施加至所述第一电极对以产生所述交流电场,从而测量通过所述狭孔的各个细胞的复介电常数。
4.根据权利要求3所述的样本引入装置,其中,所述流道具有形成在所述狭孔的下游位置处用于分取所述细胞的分支流道,所述装置还包括:
分取单元,被构造为包括在所述狭孔的下游位置和所述分支流道的上游位置处产生跨越所述流道的电场的第二电极对,所述分取单元响应于由所述测定单元测量的所述复介电常数,将电压施加至所述第二电极对以产生所述电场,从而通过使用所述分支流道来分取所述细胞。
5.根据权利要求1所述的样本引入装置,还包括:
搅拌单元,被构造为在所述样本液穿过所述狭孔流入所述流道之前,搅拌所述狭孔上方的所述样本液。
6.根据权利要求5所述的样本引入装置,其中,所述搅拌单元产生用以搅拌所述样本液的气流。
7.根据权利要求1所述的样本引入装置,其中,所述流道具有流入口、两个分支流道以及流出口。
8.一种样本引入基片,包括:
基板;
形成在所述基板上的流道,所述流道使用于传送细胞的载液通过;以及
形成在所述基板上的狭孔,所述狭孔与所述流道相通,允许单个细胞通过,并且允许含所述细胞的样本液流入所述流道。
9.一种样本引入方法,包括:
使传送细胞的载液流过流道;以及
使含有细胞的样本液穿过与所述流道相通并允许单个细胞通过的狭孔流入所述流道。
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