[发明专利]制作图案化氧化物导电层的方法及蚀刻机台有效
| 申请号： | 201110330194.8 | 申请日： | 2011-10-24 |
| 公开（公告）号： | CN102509695A | 公开（公告）日： | 2012-06-20 |
| 发明（设计）人： | 刘光泽;陈庆育;游江津;邱奕昇 | 申请（专利权）人： | 友达光电股份有限公司 |
| 主分类号： | H01L21/02 | 分类号： | H01L21/02;H01L21/67 |
| 代理公司： | 北京律诚同业知识产权代理有限公司 11006 | 代理人： | 梁挥;祁建国 |
| 地址： | 中国台湾新竹科*** | 国省代码： | 中国台湾;71 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 制作 图案 氧化物 导电 方法 蚀刻 机台 | ||
1.一种制作图案化氧化物导电层的方法，其特征在于，包含：
提供一基板；
于该基板上形成一氧化物导电层；
于该氧化物导电层上形成一图案化光阻层，其中该图案化光阻层暴露出部分该氧化物导电层；
利用一蚀刻液蚀刻该图案化光阻层暴露出的该氧化物导电层，以形成一图案化氧化物导电层；以及
于蚀刻该氧化物导电层之后，利用一化学药剂除去该图案化氧化物导电层上的该图案化光阻层，其中蚀刻该氧化物导电层的步骤与利用该化学药剂除去该图案化氧化物导电层上的该图案化光阻层的步骤之间不包括对该基板及该氧化物导电层进行一水洗步骤。
2.如权利要求1所述的制作图案化氧化物导电层的方法，其特征在于，另包括于蚀刻该氧化物导电层的步骤与利用该化学药剂除去该氧化物导电层上的该图案化光阻层的步骤之间进行一干燥步骤。
3.如权利要求2所述的制作图案化氧化物导电层的方法，其特征在于，该干燥步骤包括利用一风刀吹干残留于该基板上的该蚀刻液。
4.如权利要求2所述的制作图案化氧化物导电层的方法，其特征在于，于进行该干燥步骤时，该基板与一水平面具有一夹角。
5.如权利要求4所述的制作图案化氧化物导电层的方法，其特征在于，该夹角介于为5度至75度之间。
6.如权利要求1所述的制作图案化氧化物导电层的方法，其特征在于，该蚀刻液包括一酸性溶液。
7.如权利要求6所述的制作图案化氧化物导电层的方法，其特征在于，该酸性溶液包含有草酸与水。
8.如权利要求6所述的制作图案化氧化物导电层的方法，其特征在于，于该酸性溶液中，水的重量百分比大于90％。
9.如权利要求8所述的制作图案化氧化物导电层的方法，其特征在于，于该酸性溶液中，水的重量百分比为97％。
10.如权利要求1所述的制作图案化氧化物导电层的方法，其特征在于，该氧化物导电层包括铟锡氧化物或铟锌氧化物。
11.一种蚀刻机台，其特征在于，包含：
一蚀刻单元，用以蚀刻一基板上的一图案化光阻层暴露出的一氧化物导电层；以及
一去光阻单元，用以除去该氧化物导电层上的该图案化光阻层；
其中该蚀刻单元与该去光阻单元之间不包括水洗单元。
12.如权利要求11所述的蚀刻机台，其特征在于，该蚀刻单元与该去光阻单元相邻设置。
13.如权利要求11所述的蚀刻机台，其特征在于，另包括一干燥单元位于该蚀刻单元与该去光阻单元之间，用以干燥残留于该基板上的蚀刻液。
14.如权利要求13所述的蚀刻机台，其特征在于，另包括一基板输送单元，用以传输该基板，其中该干燥单元包括一组风刀，设置于该基板输送单元的上下两侧。
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