[发明专利]制造显示单元的方法以及显示单元无效
申请号: | 201110336926.4 | 申请日: | 2009-06-09 |
公开(公告)号: | CN102339957A | 公开(公告)日: | 2012-02-01 |
发明(设计)人: | 荒井俊明 | 申请(专利权)人: | 索尼株式会社 |
主分类号: | H01L51/56 | 分类号: | H01L51/56;H01L51/52;G02F1/133 |
代理公司: | 北京市柳沈律师事务所 11105 | 代理人: | 彭久云 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 制造 显示 单元 方法 以及 | ||
1.一种制造显示单元的方法,该显示单元在第一电极和第二电极之间具有显示层,其中形成该第一电极的步骤包括下面的步骤:
在基板上形成层叠结构,该层叠结构依次包括由金属制作的第一层和由氧化物显示导电性的金属制作的第二层;
在所述第二层上形成绝缘膜,该绝缘膜覆盖该第二层的平面形状的一部分;并且
在形成该层叠结构及该绝缘膜后对该第二层的从该绝缘膜暴露的表面暴露部分提供表面氧化处理,由此在该第二层的该表面暴露部分中的厚度方向上的至少部分中形成氧化物电导体膜。
2.根据权利要求1所述的制造显示单元的方法,其中作为氧化物显示导电性的金属,使用选自由铟、锡、锌和镉组成的组中的至少一个。
3.根据权利要求1所述的制造显示单元的方法,其中所述第一电极的第二层由功函数高于所述第一层的材料制作。
4.根据权利要求1所述的制造显示单元的方法,其中所述第一电极形成为对应于所述显示单元的各有机发光装置。
5.根据权利要求1所述的制造显示单元的方法,其中所述第一电极形成在平坦化层上,所述第一电极在所述第一层和所述平坦化层之间具有第三层。
6.根据权利要求1所述的制造显示单元的方法,其中该第一层具有反射该显示层发出的光的反射电极的功能。
7.根据权利要求1或6所述的制造显示单元的方法,其中所述第一层具有100nm至1000nm的厚度。
8.根据权利要求7所述的制造显示单元的方法,其中所述第一层的厚度为200nm。
9.根据权利要求1所述的制造显示单元的方法,其中该第一层由高反射率电导体制作,该高反射率电导体由铝或包含铝的合金、或者银或包含银的合金制作。
10.根据权利要求9所述的制造显示单元的方法,其中所述铝合金与铟合金的标准电极电位相近。
11.一种显示单元,在第一电极和第二电极之间具有显示层,其中
该第一电极具有由第一层和第二层构成的层叠结构,该第一层由金属制作,
覆盖部分的该第二层的平面形状的绝缘膜设置在该第一电极上,
该第二层的从该绝缘膜暴露的表面暴露部分在厚度方向上至少部分是氧化物电导体膜,该氧化物电导体膜是通过对氧化物显示导电性的金属提供表面氧化处理而形成,并且
该第二层的覆盖有该绝缘膜的表面涂覆部分是由氧化物显示导电性的金属制作的金属膜。
12.根据权利要求11所述的显示单元,其中作为氧化物显示导电性的金属,使用选自由铟、锡、锌和镉组成的组中的至少一个。
13.根据权利要求11所述的显示单元,其中所述第一电极的第二层由功函数高于所述第一层的材料制作。
14.根据权利要求11所述的显示单元,其中所述第一电极形成为对应于所述显示单元的各有机发光装置。
15.根据权利要求11所述的显示单元,其中所述第一电极形成在平坦化层上,所述第一电极在所述第一层和所述平坦化层之间具有第三层。
16.根据权利要求11所述的显示单元,其中该第一层具有反射该显示层发出的光的反射电极的功能。
17.根据权利要求11或16所述的显示单元,其中所述第一层具有100nm至1000nm的厚度。
18.根据权利要求17所述的显示单元,其中所述第一层的厚度为200nm。
19.根据权利要求11所述的显示单元,其中该第一层由高反射率电导体制作,该高反射率电导体由铝或包含铝的合金、或者银或包含银的合金制作。
20.根据权利要求19所述的显示单元,其中所述铝合金与铟合金的标准电极电位相近。
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