[发明专利]制造显示单元的方法以及显示单元

说明书

本申请是申请号为200910203384.6、发明名称为“制造显示单元的方法以及显示单元”的发明专利申请的分案申请。

技术领域

本发明涉及使用有机发光装置或者液晶的显示单元的制造方法以及显示单元。

背景技术

近年来，在显示单元的领域中，正在积极开发下一代显示器，并且要求省空间、高亮度和低功耗等。作为这样的显示单元，使用有机发光装置的有机EL(电致发光)显示单元引起人们的注意。有机EL显示单元具有如下特点。也就是，因为有机EL显示单元为自发光型，所以视角很宽。因为有机EL显示单元不需要背光，所以可以期待节省电功率，其响应很高，并且单元自身的厚度可以期待降低。此外，因为塑料基板用作有机EL显示单元的基板以便利用有机发光材料固有的柔性，所以有机EL显示单元作为具有柔性的单元引起人们的注意。

关于有机EL显示单元中的驱动系统，使用薄膜晶体管(TFT)作为驱动元件的有源矩阵系统比无源矩阵系统具有更好的响应和更好的分辨率。因此，有源矩阵系统被看作特别适合具有前述优点的有机EL显示单元的驱动系统。

有源矩阵有机EL显示单元具有驱动面板，驱动面板提供有有机发光装置(有机EL装置)和驱动有机发光装置的驱动元件(薄膜晶体管)，有机发光装置包括在第一电极和第二电极之间的由有机发光材料制作的发光层。驱动面板和密封面板用其间的粘合层结合起来，从而将有机发光装置夹设在其间。

在有机EL显示单元中，有底部发光型和顶部发光型，在底部发光型中光从每个有机发光装置发射到前述的驱动面板侧，在顶部发光类型中这样的光相反地发射到前述的密封面板侧。后者的类型能够更大地增加开口比，并且后者的类型是发展的主流。

在顶发射型有机EL显示单元中，对于下层侧即驱动元件侧的第一电极，使用具有相对较大的功函数的材料，例如，诸如ITO(氧化铟锡)的氧化物导电材料，使空穴易于注入发光层中。然而，氧化物导电材料的电阻率比通常的配线金属材料等的电阻率高两到三个数量级，因此除了第一电极外，氧化物导电材料没能用于配线等的材料。此外，向下发射的光可能不能有效利用，这是一个缺点。

因此，例如，日本未审查专利申请公开No.2003-115393揭示了具有高反射率和低电阻率的金属膜，形成为诸如ITO的透明导电膜的下层，从而用作配线等。

发明内容

在日本未审查专利申请公开No.2003-115393的构造中，通过溅射等形成透明导电膜。然而，诸如ITO的氧化物电导体的溅射靶比金属靶更硬且更脆。因此，为了在一侧大于1米的大玻璃基板上执行膜形成，目标应当分成几个部分。结果，微粒易于粘合到对应于分开部分的位置。该微粒渗入后续形成的有机层，这导致第二电极和第一电极之间的层间短路的缺陷，以致产生发光缺陷(暗点像素缺陷)。

此外，作为金属膜，例如，已经使用银、铝或者它们的合金。然而，这样的材料易于造成产生表面氧化膜。因此，存在增加金属膜和透明导电膜之间的接触电阻的可能性，并且发光性能下降。

考虑到前述的缺点，在本发明中，所希望的是提供这样的制造显示单元的方法和显示单元，其在第一电极具有包括金属和氧化物电导体的层叠结构的情况下，能够减少由氧化物电导体的溅射靶引起的微粒，且在金属和氧化物电导体之间获得适当导电性。

根据本发明的实施例，提供在第一电极和第二电极之间具有显示层的显示单元的制造方法，其中形成第一电极的步骤包括下面的步骤A和B：

A、在基板上形成层叠结构的步骤，该层叠结构依次包括由金属制作的第一层和由氧化物显示导电性的金属制作的第二层；以及

B、在形成层叠结构后提供表面氧化处理的步骤，由此在该第二层的厚度方向上的至少部分中形成氧化物电导体膜。

根据本发明的实施例，提供的第一显示单元在第一电极和第二电极之间具有显示层。通过在基板上形成依次包括由金属制作的第一层和由氧化物显示导电性的金属制作的第二层的层叠结构来形成第一电极，然后提供表面氧化处理，由此在第二层的厚度方向上的至少部分中形成氧化物电导体膜。

根据本发明的实施例，所提供的第二显示单元在第一电极和第二电极之间具有显示层。第一电极具有第一层和第二层组成的层叠结构，第一层由金属制作，在第一电极上提供覆盖部分的第二层的平面形状的的绝缘膜，从第二层的绝缘膜暴露的表面暴露部分在厚度方向上至少部分是氧化物电导体膜，并且覆盖有第二层的绝缘膜的表面涂覆部分是由氧化物显示导电性的金属制作的金属膜。