[发明专利]加速设计规则检查的方法及装置有效
申请号: | 201110351640.3 | 申请日: | 2011-11-08 |
公开(公告)号: | CN102346800A | 公开(公告)日: | 2012-02-08 |
发明(设计)人: | 吴玉平;陈岚;叶甜春 | 申请(专利权)人: | 中国科学院微电子研究所 |
主分类号: | G06F17/50 | 分类号: | G06F17/50 |
代理公司: | 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 | 代理人: | 逯长明;王宝筠 |
地址: | 100029 *** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 加速 设计 规则 检查 方法 装置 | ||
1.一种加速设计规则检查的方法,其特征在于,包括:
将集成电路设计的版图划分为多个子区域;
将几何同构的子区域置于同一个同构列表中;
对每个同构列表中的至少一个子区域进行设计规则检查;
根据同构列表中子区域间的几何关系和已得到的子区域的设计规则检查的结果,计算得到同构列表中其他子区域的设计规则检查的结果。
2.根据权利要求1所述的方法,其特征在于,所述将集成电路设计的版图划分为多个子区域的步骤包括:
将所述集成电路版图划分为M行×N列个矩形的内区域;
将所述内区域的边框向与其相邻的内区域延伸一部分形成外边框区域,所述内区域与外边框区域构成一个子区域。
3.根据权利要求2所述的方法,其特征在于,根据同构列表中子区域间的几何关系和已得到的子区域的设计规则检查的结果,计算得到同构列表中其他子区域的设计规则检查的结果的步骤为:根据同构列表中子区域间的几何关系和已得到的子区域中的内区域部分的设计规则检查的结果,计算得到同构列表中其他子区域中的内区域的设计规则检查的结果。
4.根据权利要求1所述的方法,其特征在于,所述将几何同构的子区域置于同一个同构列表中的步骤包括:根据子区域内的图形的几何数据之间是否存在几何同构关系,判断各个子区域内的图形是否几何同构,将几何同构关系的子区域置于同一个同构列表中,所述几何同构关系包括相同、角度旋转或镜像。
5.根据权利要求4所述的方法,其特征在于,根据子区域内的图形的几何数据之间是否存在几何同构关系,判断各个子区域内的图形是否几何同构,将几何同构关系的子区域置于同一个同构列表中的步骤包括:
确定各子区域的原点;
确定各子区域内的图形相对于原点的相对坐标;
将各子区域内的相对坐标顺序排列,以形成子区域内图形的几何数据;
判断各子区域间的几何数据是否存在相同、角度旋转、镜像或平移的几何同构关系,若是几何同构关系,将几何同构的子区域置于同一个同构列表中。
6.根据权利要求5所述的方法,其特征在于,将各子区域内的相对坐标顺序排列,以形成子区域内图形的几何数据的步骤包括:
按照掩膜层号将子区域划分为具有不同掩膜层号的图形子集合;
逐一将各图形子集合内的相对坐标顺序排列,以形成子区域内图形的几何数据。
7.根据权利要求1所述的方法,其特征在于,在对每个同构列表中的至少一个子区域进行设计规则检查之后,计算得到同构列表中其他子区域的设计规则检查的结果之前,还包括步骤:所述子区域内没有违反设计规则的几何图形,标记所述子区域所在的同构列表设计规则检查为通过。
8.根据权利要求1-7中任一项所述的方法,其特征在于,以并行方式同时对每个同构列表中的至少一个子区域进行设计规则检查。
9.根据权利要求1-7中任一项所述的方法,其特征在于,对每个同构列表中的至少一个子区域进行设计规则检查,其中进行设计规则检查的步骤包括:
检查子区域内各图形本身是否符合设计规则;
检查子区域内各图形之间是否符合设计规则。
10.一种加速设计规则检查的装置,其特征在于,包括:
版图区域划分单元,用于将集成电路设计的版图划分为多个子区域;
区域同构单元,用于将几何同构的子区域置于同一个同构列表中;
子区域设计规则检查单元,用于对同构列表中的至少一个子区域进行设计规则检查;
设计规则结果复用单元,根据同构列表中子区域间的几何关系和已得到的子区域的设计规则检查的结果,计算得到同构列表中其他子区域的设计规则检查的结果。
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