[发明专利]对位装置及对位方法无效
申请号: | 201110353021.8 | 申请日: | 2011-11-09 |
公开(公告)号: | CN102565082A | 公开(公告)日: | 2012-07-11 |
发明(设计)人: | 加藤阳治 | 申请(专利权)人: | 奥林巴斯株式会社 |
主分类号: | G01N21/892 | 分类号: | G01N21/892;G01N21/956 |
代理公司: | 北京林达刘知识产权代理事务所(普通合伙) 11277 | 代理人: | 刘新宇;张会华 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 对位 装置 方法 | ||
技术领域
本发明涉及一种使用于检查装置的对位装置及对位方法,该检查装置用于对例如平板显示器用的玻璃基板、半导体基板、印刷电路板等进行检查。
背景技术
以往,在液晶显示器(LCD:Liquid Crystal Display)、PDP(等离子体显示面板:Plasma Display Panel)、有机EL(ElectroLuminescence)显示器、表面传导型电子发射元件显示器(SED:Surface-conduction Electro-emitter Display)等FPD(Flat Panel Display)基板、半导体晶圆、印刷电路板等各种基板的制造中,为了提高其成品率,在各图案处理之后,依次检查是否存在布线的短路、连接不良、断线、图案不良等缺陷。基板检查装置是用于一边自基板所载置的浮起用板的下方对基板进行照明一边拍摄检查对象的基板而进行基板检查的、所谓透射照明型的基板检查装置。此外,根据检查对象的基板的不同,也使用用于自拍摄基板的摄像元件侧进行照明的落射(epi-illumination)照明型的基板检查装置。
但是,在用于对玻璃基板等具有较宽检查对象面的基板进行检查、测量等处理的基板检查装置中,在对检查对象面的特定位置进行检查时,参照根据登记在制程程序(recipe)中的座标而登记的模板来进行检查对象基板的对象图案的图案匹配,并进行对位。但是,登记在制程程序中的对象图案的座标与台上实际的对象图案的座标不一定一致,根据情况的不同,必须使摄像部或基板移动,重复进行多次图案匹配而检索对象图案。
因此,公开有如下对位方法:预先设定以高倍率获取的第1模板、以及用于与缩小了包含检索对象图像在内的较宽区域而成的图像进行图案匹配的第2模板,在无法利用第1模板进行图案匹配而获得对象图案的情况下,使用第2模板进行图案匹配(例如参照专利文献1)。
先行技术文献
专利文献
专利文献1:日本专利第3246616号公报
但是,关于专利文献1所公开的对位方法,在拍摄的图像偏离于检查区域的情况下,当在拍摄的位置将光学系统切换成低倍率而获取了较宽范围的低倍率图像之后,需要再次进行图案匹配,因此导致检查时间增加。此外,多次操作所引起的摄像部或基板的移动也导致检查时间增加。
发明内容
本发明是鉴于上述情况而做成的,其目的在于提供一种即使在拍摄的检查对象的图像偏离于检查区域的情况下也能够缩短检查对象的对位所需的检索时间、从而能够抑制检查时间的增加的对位装置及对位方法。
为了解决上述问题并达到目的,本发明提供一种对位装置,其用于进行用来检查测量的基板的对位,其特征在于,上述对位装置包括:摄像部,其用于拍摄上述基板的图像;存储部,其用于存储利用上述摄像部拍摄的高倍制程程序图像、以及利用上述摄像部拍摄的低倍制程程序图像,该高倍制程程序图像被设定了用于进行上述检查测量的测量部位,该低倍制程程序图像包含上述高倍制程程序图像的视场区域,并具有范围比该高倍制程程序图像大的视场区域;检索部,其用于检索倍率与上述存储部所存储的上述高倍制程程序图像相等的、利用上述摄像部拍摄的用于进行上述检查测量的检查图像在上述低倍制程程序图像内的位置;计算部,在上述检索部的检索的结果为上述测量部位偏离于上述检查图像的视场区域内的情况下,该计算部用于计算出包含该检查图像及上述测量部位的位置在内的位置信息;以及控制部,其根据上述计算部所计算出的上述位置信息,移动了上述摄像部以使上述测量部位进入上述检查图像的视场区域内,之后使上述摄像部拍摄检查图像。
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