[发明专利]一种真空低温烹饪机

权利要求书

1.一种真空低温烹饪机，包括机壳，所述机壳内设有容器和加热循环系统，所述容器包括水盆和机盖，其特征在于：所述加热循环系统包括发热器、水泵以及连接管道，所述发热器与所述水泵通过所述连接管道与所述水盆串联接在一起形成闭合循环回路，所述水盆设有与所述连接管道连通的进水口和出水口。

2.根据权利要求1所述的真空低温烹饪机，其特征在于：所述水盆底部进水口设有中通螺丝和三通，所述三通一方向连接水盆，一个方向通过所述连接管道接所述水泵，另一方向经排水管道连接排水口，还包括用于控制排水管道开闭的提手。

3.根据权利要求2所述的真空低温烹饪机，其特征在于：所述三通设有与水直接接触的温度传感器。

4.根据权利要求2所述的真空低温烹饪机，其特征在于：所述中通螺丝内设有可拆卸的外滤网，所述中通螺丝与三通之间设有不可拆卸的内滤网。

5.根据权利要求4所述的真空低温烹饪机，其特征在于：所述外滤网包括外滤网外支架、外滤网以及外滤网内支架。

6.根据权利要求1所述的真空低温烹饪机，其特征在于：所述连接管道出水口通过弯头、通孔螺丝固定于所述水盆侧壁。

7.根据权利要求6所述的真空低温烹饪机，其特征在于：所述通孔螺丝头部有四个不同方向的出水孔，方向分别是左一个，右一个，前端两个。

8.根据权利要求1所述的真空低温烹饪机，其特征在于：所述机盖包括外盖和内盖，所述内盖设有和所述外盖卡接的前卡扣和后卡扣。

9.根据权利要求1所述的真空低温烹饪机，其特征在于：所述机壳下方设有底盖，所述底盖设有凹槽，所述凹槽容置有底座，凹槽面凸起若干细点，用于支撑底座，所述机壳可相对于所述底座旋转。

10.根据权利要求1所述的真空低温烹饪机，其特征在于：所述发热器的出水口设有保护温度感应器。