[发明专利]光致抗蚀剂膜的剥离液组合物无效
| 申请号： | 201110367662.9 | 申请日： | 2011-11-18 |
| 公开（公告）号： | CN102411269A | 公开（公告）日： | 2012-04-11 |
| 发明（设计）人： | 张军;常积东;李承孝 | 申请（专利权）人： | 西安东旺精细化学有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/42 | 分类号： | G03F7/42 |
| 代理公司： | 西安智邦专利商标代理有限公司 61211 | 代理人： | 徐平 |
| 地址： | 710075 陕西省西安*** | 国省代码： | 陕西;61 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 光致抗蚀剂膜 剥离 组合 | ||
1.一种光致抗蚀剂膜的剥离液组合物，其特征在于：该组合物按质量百分比计包括：
(1)有机碱，含量为5-50wt％；
(2)有机溶剂，含量为1-60wt％；
(3)防腐蚀剂，含量为0.5-15wt％；
(4)余量为水。
2.根据权利要求1所述的光致抗蚀剂膜的剥离液组合物，其特征在于：该组合物按质量百分比计包括：
(1)有机碱，含量为10-40wt％；
(2)有机溶剂，含量为5-50wt％；
(3)防腐蚀剂，含量为1-10wt％；
(4)余量为水。
3.根据权利要求2所述的光致抗蚀剂膜的剥离液组合物，其特征在于：该组合物按质量百分比计包括：
(1)有机碱，含量为15-30wt％；
(2)有机溶剂，含量为10-40wt％；
(3)防腐蚀剂，含量为2-8wt％；
(4)余量为水。
4.根据权利要求1至3任一所述的光致抗蚀剂膜的剥离液组合物，其特征在于：所述的有机碱包括烷醇胺、季胺碱、胆碱、羟胺、N，N-二乙基羟胺中的任意一种、任意两种或两种以上以任意比例混合。
5.根据权利要求4所述的光致抗蚀剂膜的剥离液组合物，其特征在于：所述的有机溶剂包括N-甲基吡咯烷酮、N，N-二甲基甲酰胺、N，N-二甲基乙酰胺、二甲基亚砜、烷基醇醚、烷基或芳香基醇中的任意一种、任意两种或两种以上以任意比例混合。
6.根据权利要求5所述的光致抗蚀剂膜的剥离液组合物，其特征在于：所述的防腐蚀剂包括芳香族羟基化合物或/和唑类化合物中的任意一种、任意两种或两种以上以任意比例混合。
7.根据权利要求6所述的光致抗蚀剂膜的剥离液组合物，其特征在于：所述芳香族羟基化合物包括没食子酸、单宁酸、植酸、邻苯二酚、对苯二酚中的至少一种；唑类化合物包括三氮唑、甲基三氮唑、苯并三氮唑、苯并四氮唑、氨基四氮唑、巯基苯并噻唑中的任意一种、任意两种或两种以上以任意比例混合。
8.根据权利要求1所述的光致抗蚀剂膜的剥离液组合物，其特征在于：所述剥离液组合物用于封装基板的光致抗蚀剂膜的剥离。
9.根据权利要求1所述的光致抗蚀剂膜的剥离液组合物，其特征在于：所述剥离液组合物用于PCB、FPC、TFT、LCD的光致抗蚀剂膜的剥离。
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