[发明专利]图案形成方法及图案形成装置有效
申请号: | 201110369542.2 | 申请日: | 2011-11-15 |
公开(公告)号: | CN102694062A | 公开(公告)日: | 2012-09-26 |
发明(设计)人: | 岩岛正信;真田雅和 | 申请(专利权)人: | 大日本网屏制造株式会社 |
主分类号: | H01L31/18 | 分类号: | H01L31/18 |
代理公司: | 隆天国际知识产权代理有限公司 72003 | 代理人: | 董雅会;郭晓东 |
地址: | 日本国京*** | 国省代码: | 日本;JP |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | |||
搜索关键词: | 图案 形成 方法 装置 | ||
1.一种图案形成方法,其特征在于,
包括:
第一工序,一边使嘴体沿着基板的表面向规定的扫描移动方向相对移动,一边从所述嘴体的喷出口连续地喷出含有光固性材料的涂敷液,
第二工序,使光射出单元以追随所述嘴体的方式沿着所述基板的表面向所述扫描移动方向相对移动,并对涂敷于所述基板的所述涂敷液进行光照射,从而使所述光固性材料光固化;
当所述嘴体相对于所述基板的相对位置到达规定的涂敷结束位置时,从所述喷出口停止喷出所述涂敷液,并且使所述嘴体向与所述基板的表面相分离的方向相对于所述基板的表面相对移动;
在所述嘴体与所述基板的表面相分离后,使所述光射出单元相对于所述基板向所述扫描移动方向相对移动来进行光照射,直到照射到因所述喷出口停止喷出而终断的所述涂敷液的末端部为止。
2.根据权利要求1记载的图案形成方法,其特征在于,在所述嘴体到达所述涂敷结束位置时,所述嘴体停止向所述扫描移动方向相对于所述基板相对移动,并停止从所述喷出口喷出所述涂敷液,然后所述嘴体与所述基板的表面相分离。
3.根据权利要求1或2记载的图案形成方法,其特征在于,在从开始对所述涂敷液进行光照射起到结束对所述涂敷液的所述末端部的光照射为止的期间,所述光射出单元和所述基板的表面之间的间隔维持恒定。
4.根据权利要求1或2记载的图案形成方法,其特征在于,在从开始对所述涂敷液进行光照射起到停止从所述喷出口喷出所述涂敷液为止的期间,所述嘴体和所述光射出单元在所述扫描移动方向上的间隔维持恒定。
5.根据权利要求1或2记载的图案形成方法,其特征在于,通过将所述嘴体的位置固定并使所述基板移动,来实现所述嘴体相对于所述基板的相对移动。
6.一种图案形成装置,其特征在于,
具有:
基板保持单元,其保持基板,
嘴体,其具有喷出口,该喷出口能够连续地喷出含有光固性材料的涂敷液,
光射出单元,其对从所述喷出口喷出的所述涂敷液射出光,以及
移动机构,其使所述嘴体沿着由所述基板保持单元保持的所述基板的表面向规定的扫描移动方向相对移动,并使所述光射出单元以追随所述嘴体的方式沿着所述基板的表面向所述扫描移动方向相对移动;
当借助所述移动机构相对于所述基板相对移动的所述嘴体到达规定的涂敷结束位置时,停止从所述喷出口喷出所述涂敷液,并且所述移动机构使所述嘴体向与所述基板的表面相分离的方向相对于所述基板的表面相对移动;
在所述嘴体与所述基板的表面相分离后,所述移动机构使所述光射出单元相对于所述基板向所述扫描移动方向相对移动来进行光照射,直到照射到因所述喷出口停止喷出而终断的所述涂敷液的末端部为止。
7.根据权利要求6记载的图案形成装置,其特征在于,所述移动机构一边将所述光射出单元和所述基板的表面之间的间隔维持恒定,一边使所述光射出单元相对于所述基板向所述扫描移动方向相对移动。
8.根据权利要求6或7记载的图案形成装置,其特征在于,
所述移动机构一方面将所述嘴体固定保持在规定位置,另一方面使所述基板保持单元移动,
所述移动机构通过使所述基板保持单元向与所述扫描移动方向相反的方向移动,来使所述嘴体相对于所述基板向所述扫描移动方向相对移动,当所述嘴体相对于所述基板的相对位置到达所述涂敷结束位置时,使所述基板保持单元向与所述嘴体相分离的方向移动。
9.根据权利要求8记载的图案形成装置,其特征在于,一方面在所述扫描移动方向上一体地支撑所述光射出单元和所述嘴体,另一方面,在与所述基板的表面相接近及分离的接近分离方向上以使所述光射出单元相对于所述嘴体移动自如的方式支撑所述光射出单元,当所述基板保持单元向与所述嘴体相分离的方向移动时,所述移动机构使所述光射出单元以追随所述基板保持单元的方式移动。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于大日本网屏制造株式会社,未经大日本网屏制造株式会社许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201110369542.2/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:冷轧带钢边部板形控制方法
- 下一篇:旋转于水下拍摄的摄像装置
- 同类专利
- 专利分类
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L31-00 对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射,或微粒辐射敏感的,并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或者专门适用于通过这样的辐射进行电能控制的半导体器件;专门适用于制造或处理这些半导体器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
H01L31-0248 .以其半导体本体为特征的
H01L31-04 .用作转换器件的
H01L31-08 .其中的辐射控制通过该器件的电流的,例如光敏电阻器
H01L31-12 .与如在一个共用衬底内或其上形成的,一个或多个电光源,如场致发光光源在结构上相连的,并与其电光源在电气上或光学上相耦合的