[发明专利]一种多晶硅反应炉清洗装置

权利要求书

1.一种多晶硅反应炉清洗装置，其特征在于，包括：圆盘形承接盘(1)、贯通口(2)、排液口(3)、喷嘴装置(5)、活动装置(6)、洗刷装置(7)，所述承接盘(1)水平设置在反应炉内，所述贯通口(2)沿铅直方向设置在承接盘(1)的中央部，承接盘一侧设置有排液口(3)，承接盘(1)的外周部设有凸缘部(4)，所述贯通口一端连接有轴(8)，所述轴(8)端部设置有喷嘴装置及洗刷装置，所述洗刷装置与轴(8)之间通过活动装置连接。

2.根据权利要求1所述的多晶硅反应炉清洗装置，其特征在于：所述承接盘(1)的上表面以朝向所述排液口(3)具有向下抖坡的方式倾料。

3.根据权利要求1所述的多晶硅反应炉清洗装置，其特征在于：所述喷嘴装置(5)向三维方向高压喷射清洗液。

4.根据权利要求1所述的多晶硅反应炉清洗装置，其特征在于：所述活动装置(6)可以纵向伸缩，0-360°旋转。

5.根据权利要求1所述的多晶硅反应炉清洗装置，其特征在于：所述洗刷装置(7)有软性吸收材料。