[发明专利]检验基板的方法

权利要求书

1.一种检验基板的方法，包括：

使多个投射部依次将图案光束投射在形成有目标物的基板上，以获得与所述基板有关的每个投射部的相位数据；

利用所述每个投射部的相位数据来获得与所述基板有关的每个投射部的高度数据；

将所述多个投射部中可靠性最高的投射部设为基准投射部；

以所述基准投射部的高度数据为基准来修正其余投射部的高度数据；以及

利用修正后的高度数据获得整合高度数据。

2.根据权利要求1所述的检验基板的方法，其中，在将所述多个投射部中可靠性最高的投射部设为基准投射部的步骤中，利用以高度、信噪比、幅值、平均强度作为参数的可见度信息和灰度信息中的至少一个来评估可靠性。

3.根据权利要求1所述的检验基板的方法，其中，以所述基准投射部的高度数据为基准来修正其余投射部的高度数据的步骤包括：

以所述基准投射部的高度数据为基准获得关于其余投射部的高度数据的高度偏差；以及

用其余投射部的高度数据中的每个高度数据减去所述高度偏差。

4.根据权利要求3所述的检验基板的方法，其中，所述高度偏差利用背景区域和所述目标物的上部区域中的至少一个区域来获得。

5.根据权利要求1所述的检验基板的方法，还包括：在获得所述每个投射部的高度数据的步骤之前，

将所述基板划分成背景区域和形成有目标物的目标物区域；

将所述背景区域中的频数最大的相位数据设定为与各个投射部有关的表现背景相位；以及

对所述每个投射部的相位数据进行变换，以使与各个投射部有关的表现背景相位变为0。

6.一种检验基板的方法，包括：

使多个投射部依次将图案光束投射在形成有目标物的基板上，以获得与所述基板有关的每个投射部的相位数据；

利用所述每个投射部的相位数据来获得与所述基板有关的每个投射部的高度数据；

将所述多个投射部中可靠性最高的投射部设为基准投射部；

以所述目标物的上部区域为基准相对于所述基准投射部的高度数据修正其余投射部的高度数据；以及

利用以所述目标物的上部区域为基准而修正的高度数据来获得整合高度数据。

7.根据权利要求6所述的检验基板的方法，其中，在将所述多个投射部中可靠性最高的投射部设为基准投射部的步骤中，利用以高度、信噪比、幅值、平均强度作为参数的可见度信息和灰度信息中的至少一个来评估可靠性。

8.根据权利要求6所述的检验基板的方法，还包括：在获得所述每个投射部的高度数据的步骤之前，

将所述基板划分成背景区域和形成有目标物的目标物区域；

将所述背景区域中的频数最大的相位数据设定为与各个投射部有关的表现背景相位；以及

对所述每个投射部的相位数据进行变换，以使与各个投射部有关的表现背景相位变为0。

9.根据权利要求6所述的检验基板的方法，其中，获得所述整合高度数据的步骤包括：

以所述基板的背景区域为基准再次修正所述每个投射部的高度数据。