[发明专利]一种五效真空制盐工艺

说明书

技术领域

本发明涉及一种制盐工艺，更具体地说，本发明涉及一种五效真空制盐工艺，属于制盐工业领域。

背景技术

目前五效真空制盐工艺为：从矿山输送来的液体卤水，经过沉淀以及处理后去除杂质，达到标准后成为制盐所需的原料卤水，将该卤水用蒸汽加热蒸发达到结晶浓度后进行结晶，即可获得产品食盐。

目前真空制盐均采用石膏晶种防垢法，石膏在卤水预处理的时候，一般要求尽可能将其除去，但是无法做到完全除尽，始终要带一部分石膏进入蒸发系统。随着不断蒸发浓缩，石膏含量逐步升高。在真空制盐工艺中，石膏既是结垢的主要成分，但是其在蒸发系统内，保持适当的浓度又可以减缓和阻止结垢，所以真空制盐工艺中要求，蒸发系统内石膏晶种的含量控制在一定范围内，浓度过高容易结垢和影响产品质量，浓度过低，不利于防垢。

现有的五效真空制盐工艺中，Ⅰ～Ⅳ效蒸发室采用独立排放石膏的工艺，每一个蒸发室中的石膏都由单独的管道排放。这样，Ⅴ效蒸发室中的石膏含量达不到要求值，导致Ⅴ效蒸发室中的加热管结垢严重，进而影响加热室的传热，缩短了制盐运行周期，影响最后产品的质量，且采用此种方法Ⅰ、Ⅱ效蒸发室中的料液温度较高，使得排放石膏时热损失较大，而且因为料液温度与外界温差较大，排放石膏时事故管会剧烈震动，影响设备稳定运行，易造成安全事故。

发明内容

本发明旨在解决现有技术的五效真空制盐工艺中Ⅴ效蒸发室的石膏含量达不到要求，导致加热管结垢严重，进而影响加热室传热，缩短了制盐运行周期的问题，提供一种Ⅴ效蒸发室的石膏含量能够达到要求，加热管不结垢，延长制盐运行周期的五效真空制盐工艺。

本发明的另一个目的是解决现有技术中Ⅰ、Ⅱ效蒸发室料液温度高，排放石膏时热损失大，且与外界温差大，影响设备稳定运行的问题，提供一种热损失小，与外界温度差小，设备运行稳定的五效真空制盐工艺。

为了实现上述发明目的，其具体的技术方案为：

一种五效真空制盐工艺，其特征在于：包括以下工艺步骤：

A、将经过处理，除去杂质得到的卤水加入Ⅰ～Ⅴ效蒸发室内；

B、蒸汽进入Ⅰ效加热室，对Ⅰ效蒸发室内的卤水进行加热，蒸发浓缩，加热后蒸发卤水的蒸汽作为Ⅱ效蒸发室的加热源进入Ⅱ效加热室，以此类推，Ⅱ效蒸发室的蒸汽进入Ⅲ效加热室，Ⅲ效蒸发室的蒸汽进入Ⅳ效加热室，Ⅳ效蒸发室的蒸汽进入Ⅴ效加热室，Ⅴ效蒸发室的蒸汽用水冷却后排出；

C、在蒸发过程中，根据Ⅰ～Ⅳ效蒸发室中卤水液面的下降情况，卤水先进入Ⅴ效蒸发室进行预热，预热完成后分别补充到Ⅰ～Ⅳ效蒸发室中，保证其有足够的卤水；

D、随着蒸发过程的进行，各效蒸发室产生石膏，Ⅰ效蒸发室内的石膏通过石膏排放管排入Ⅱ效蒸发室，以此类推，Ⅱ效蒸发室内的石膏排入Ⅲ效蒸发室，Ⅲ效蒸发室内的石膏排入Ⅳ效蒸发室，Ⅳ效蒸发室内的石膏一部分排出蒸发系统，另一部分排入Ⅴ效蒸发室，补充Ⅴ效蒸发室内的石膏，在此过程中始终保持Ⅰ～Ⅴ效蒸发室内的石膏含量为15～60g/l；

E、卤水蒸发浓缩达到结晶浓度后，Ⅰ效的盐浆从盐脚转入Ⅱ效，Ⅱ效盐浆从盐脚转入Ⅲ效，Ⅲ效盐浆从盐脚转入Ⅳ效，最后从Ⅳ效蒸发室排出获得成品盐浆。

上述A～E得到的成品盐浆通过常规结晶工艺得到食盐产品。

本发明步骤B中所述的对Ⅰ效蒸发室的卤水进行加热的蒸汽温度为125～150℃。

本发明步骤B中所述的Ⅴ效蒸发室的蒸汽温度为40～50℃。

本发明步骤C中所述的卤水进入Ⅴ效蒸发室进行预热是指预热到40～50℃。

本发明步骤D中Ⅰ效蒸发室排放石膏时的温度控制在110～130℃；Ⅱ效蒸发室排放石膏时的温度控制在100～110℃；Ⅲ效蒸发室排放石膏时的温度控制在85～95℃；Ⅳ效蒸发室排放石膏时的温度控制在60～70℃。

本发明步骤D中所述的Ⅰ～Ⅴ效蒸发室排放石膏的石膏排放管分别设置有独立的冲洗管连接到卤水冲洗水管道，卤水冲洗水通过管道进入石膏排放管进行冲洗，防止石膏排放管堵塞。

本发明步骤D中所述的Ⅳ效蒸发室还通过事故管连接事故池，一部分石膏通过事故管排放入事故池。

本发明带来的有益技术效果：