[发明专利]可异地加工四银低辐射镀膜玻璃及其制造方法

说明书

技术领域

本发明涉及建筑和车用镀膜玻璃领域，具体是一种可异地加工四银低辐射镀膜玻璃及其制造方法。

背景技术

四银低辐射玻璃作为目前国内正在研发的低辐射镀膜玻璃中的高端产品，由多达四层的银层组成，具有较高的可见光透过率、很高的红外线反射率，可以获得极佳的隔热保温效果，另外对于紫外线的阻挡也有着很好的效果。但是现有的四银低辐射玻璃加工中，只能对玻璃采用先钢化再镀膜的加工方式，导致传统四银低辐射玻璃不能推广到车用玻璃上，也不能大面积推广到民用住宅。主要因为：1)、现代建筑和汽车挡风玻璃广泛采用弯钢化和热弯玻璃，而传统离线低辐射镀膜玻璃性能较差，不能进行弯钢化和热弯等后续热加工处理，国内现有的镀膜玻璃生产线也无法良好的实现在弯钢化和热弯玻璃基片上进行镀膜；2)、传统的加工方式效率低，通常钢化玻璃的镀膜装载率只有75％左右，也就是只能发挥镀膜线产能的75％，钢化玻璃需要人工装、卸片，需要配置足够的操作工，增加了人工工资支出，同时人工装、卸片的速度又制约了镀膜走速。镀膜工序各种补片数量多、生产周期长；3)、玻璃运输成本高，因离线低辐射镀膜玻璃必须合成中空玻璃使用，而中空玻璃的运输增加了运输支出，例如，6mm低辐射玻璃+12mm空气层+6mm玻璃的中空玻璃，运输货物的体积是单片玻璃的两倍，基于上述原因，开发一种可以实现异地加工的四银低辐射镀膜玻璃势在必行。

发明内容

本发明的技术目的是解决现有技术中存在的问题，提供一种产品性能好，耐磨、抗腐蚀、抗氧化，在镀膜后可异地加工的四银低辐射镀膜玻璃及其制造方法。

本发明的技术方案是：

一种可异地加工四银低辐射镀膜玻璃，包括玻璃基片和镀制在玻璃基片上的膜层，其特征在于，所述膜层自玻璃基片向外依次包括：基层电介质层、第一电介质组合层、第一阻挡保护层、第一银层、第二阻挡保护层、第一间隔电介质组合层、第三阻挡保护层、第二银层、第四阻挡保护层、第二间隔电介质组合层、第五阻挡保护层、第三银层、第六阻挡保护层、第三间隔电介质组合层、第七阻挡保护层、第四银层、第八阻挡保护层、第二电介质组合层。上述的各膜层可以是由单一材料构成或者由多个材料膜层叠加构成的复合层。

所述基层电介质层为硅基化合物，优选Si₃N₄、SiO₂、SiOxNy中的一种。

所述第一电介质组合层、第二电介质组合层、第一间隔电介质组合层、第二间隔电介质组合层、第三间隔电介质组合层由SSTOx、CrNx、CdO、MnO₂、InSbO、TxO、SnO₂、ZnO、ZnSnOx、ZnSnPbOx、ZrO₂、AZO、Si₃N₄、SiO₂、SiOxNy、BiO₂、Al₂O₃、Nb₂O₅、Ta₂O₅、In₂O₃、MoO₃材料膜层中的一种或几种组成。

所述第一、第二、第三、第四、第五、第六、第七、第八阻挡保护层为金属、金属氧化物或金属氮化物材料的膜层构成，优选Ti、NiCr、Ni、Cr、Nb、Zr、NiCrOx、NiCrNx、CrNx材料中的一种。

一种可异地加工四银低辐射镀膜玻璃的制造方法，采用真空磁控溅射镀膜方式，其特征在于，包括以下步骤：

(1)、将玻璃基片清洗干燥后，将其置于真空溅射区，进行预真空过渡；

(2)、在所述玻璃基片上自下向上依次沉积形成基层电介质层、第一电介质组合层、第一阻挡保护层、第一银层、第二阻挡保护层、第一间隔电介质组合层、第三阻挡保护层、第二层银层、第四阻挡保护层、第二间隔电介质组合层、第五阻挡保护层、第三层银层、第六阻挡保护层、第三间隔电介质组合层、第七阻挡保护层、第四银层、八阻挡保护层、第二电介质组合层；

(3)、形成产品；

所述基层电介质层、第一和第二电介质组合层、第一至第三间隔层电介质组合层均采用双旋转阴极、中频反应磁控溅射方式沉积；所述第一至第四银层、第一至第八阻挡保护层均采用平面阴极、直流溅射的方式沉积。

所述双旋转阴极、中频反应磁控溅射方式是在氩氧、氩氮或氩氧氮氛围中进行；所述直流磁控溅射方式是在氩氧、氩氮或纯氩氛围中进行。