[发明专利]一种合成超微孔二氧化硅的方法无效
| 申请号： | 201110389027.0 | 申请日： | 2011-11-30 |
| 公开（公告）号： | CN102557048A | 公开（公告）日： | 2012-07-11 |
| 发明（设计）人： | 王仁亮;朱延美;冀海伟;李莉;葛海燕 | 申请（专利权）人： | 泰山医学院 |
| 主分类号： | C01B33/12 | 分类号： | C01B33/12 |
| 代理公司： | 泰安市泰昌专利事务所 37207 | 代理人： | 姚德昌 |
| 地址： | 271000*** | 国省代码： | 山东;37 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 一种 合成 微孔 二氧化硅 方法 | ||
【权利要求书】：
1.一种合成超微孔二氧化硅的方法，其特征在于：包括以下步骤：
（1）将4.50-5.50gN,N′-双十烷基二甲基-a,ω-乙烷溴化铵和1.50-2.00gNa2SiO3·9H2O分别溶于30.0ml的去离子水中，然后在室温、搅拌的情况下把两种物质迅速混合；
（2）静置10分钟后，在剧烈搅拌的情况下向上述混合液中逐滴滴入2mol/L的硫酸溶液，至pH为9-10之间；
（3）将混合液室温下静置4-6h，然后在80℃的烘箱中恒温70-73小时，得到的固体沉淀物经过滤、洗涤后在空气中晾干，得到复合产物；
（4）将复合产物以1.5℃/min的速度在空气中升温加热到540-560℃，恒温3-5小时得到产品。
2.根据权利要求1所述的一种合成超微孔二氧化硅的方法，其特征在于：步骤一所述的N,N′-双十烷基二甲基-a,ω-乙烷溴化铵和Na2SiO3·9H2O组分含量分别为5.00g和1.72g。
3.一种根据权利要求1所述的方法制得的超微孔二氧化硅，其特征在于：所述的二氧化硅的孔径尺寸为1.0-2.0nm。
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