[发明专利]蒸镀设备以及蒸镀方法

权利要求书

1.一种蒸镀设备，用于处理一基板，该基板具有一基板对位标记，其特征在于，该蒸镀设备包括：

一遮罩，位于该基板的下方，该遮罩具有多个侧边，且任两个相邻的侧边之间具有一转角区域，其中该遮罩的其中一转角区域中具有一遮罩对位标记，该遮罩对位标记对应该基板对位标记设置，且该遮罩对位标记具有一第一部份以及一第二部分；

一蒸镀源，位于该遮罩的下方：

一磁性板，位于该基板的上方；以及

至少一对位检测装置，其中该对位检测装置对应该基板对位标记与该遮罩对位标记设置，且该对位检测装置的一检测方向与该基板的一表面之间具有一锐角夹角θ，该对位检测装置藉由该基板对位标记与该遮罩对位标记的该第一部份之间的对位以及该基板对位标记与该遮罩对位标记的该第二部份的对位，以确定该基板与该遮罩彼此对准。

2.如权利要求1所述的蒸镀设备，其特征在于，该基板对位标记与该遮罩对位标记的该第一部份以及该第二部份之间的一邻接处对准。

3.如权利要求1所述的蒸镀设备，其特征在于，θ＞30度。

4.如权利要求3所述的蒸镀设备，其特征在于，该遮罩与该基板之间的距离为H1，该遮罩对位标记的该第一部份的长度L1＞H1/(tanθ)，且该遮罩对位标记的该第二部份的长度L2＞H1/(tanθ)。

5.如权利要求4所述的蒸镀设备，其特征在于，该遮罩对位标记的该第一部份与该遮罩的边缘之间的一最短距离为15～25mm，该遮罩对位标记的该第二部份与该遮罩的边缘之间的一最短距离为15～25mm。

6.如权利要求4所述的蒸镀设备，其特征在于，该遮罩与该基板之间的距离H1为1～3mm。

7.如权利要求1所述的蒸镀设备，其特征在于，该遮罩对位标记的该第一部份与该第二部份分别为一直线图案，且该第一部份与该第二部份彼此垂直。

8.如权利要求1所述的蒸镀设备，其特征在于，该遮罩对位标记的该第一部份与该第二部份分别为排列成直线状的多个点状图案，且该第一部份的该些点状图案的排列方向与该第二部份的该些点状图案的排列方向彼此垂直。

9.如权利要求1所述的蒸镀设备，其特征在于：

该遮罩对位标记的数目为二，该二遮罩对位标记分别位于该遮罩的一对角线的两端；以及

该基板对位标记的数目为二。

10.如权利要求9所述的蒸镀设备，其特征在于，该对位检测装置的数目为二，该二对位检测装置分别对应位于该遮罩的该对角线两端的遮罩对位标记设置。

11.如权利要求9所述的蒸镀设备，其特征在于，该二遮罩对位标记以该遮罩的一中心点对称设置。

12.一种蒸镀方法，其特征在于，包括：

提供一蒸镀设备，其如权利要求1所述；

利用该对位检测装置对该基板与该遮罩进行一对位步骤，其中该对位步骤包括利用该对位检测装置以侦测该基板对位标记与该遮罩对位标记的该第一部份之间的对位以及该基板对位标记与该遮罩对位标记的该第二部份的对位；

将该遮罩与该基板贴合，并利用该磁性板的磁性作用以确保该遮罩与该基板贴合；

利用该蒸镀源进行一蒸镀程序，以于该基板上形成一图案。

13.如权利要求12所述的蒸镀方法，其特征在于，于进行该对位步骤之后，更包括将该磁性板往该基板靠近，以使该磁性板之磁性作用可使该遮罩与该基板贴合。

14.如权利要求12所述的蒸镀方法，其特征在于：

该遮罩对位标记的数目为二，该二遮罩对位标记分别位于该遮罩的一对角线的两端；

该基板对位标记的数目为二；

该对位检测装置的数目为二，该二对位检测装置分别对应位于该遮罩的该对角线两端的遮罩对位标记设置；以及

该对位步骤包括分别使用所述两个对位检测装置对该二遮罩对位标记以及该二基板对位标记进行对位。