[发明专利]对准主玻璃件及其制造方法和拉紧气相沉积掩膜的方法

权利要求书

1.一种对准主玻璃件，用于对准气相沉积掩膜的多个开口以拉紧所述气相沉积掩膜，该对准主玻璃件包括：

透明基板；和

位于所述透明基板的至少一个表面上的多个反射膜图案，所述多个反射膜图案仅位于与所述气相沉积掩膜的所述多个开口相对应的位置处。

2.根据权利要求1所述的对准主玻璃件，其中所述多个反射膜图案包括金属材料。

3.根据权利要求2所述的对准主玻璃件，其中所述多个反射膜图案包括钼和钨中至少之一。

4.根据权利要求1所述的对准主玻璃件，其中所述多个反射膜图案比所述多个开口小。

5.一种用于制造对准主玻璃件的方法，所述对准主玻璃件用于拉紧具有用于沉积有机材料的多个开口的气相沉积掩膜，所述方法包括：

提供透明基板；以及

在所述透明基板的至少一个表面上形成多个反射膜图案，使得所述多个反射膜图案仅位于与所述气相沉积掩膜的所述多个开口相对应的位置处。

6.根据权利要求5所述的用于制造对准主玻璃件的方法，其中形成所述多个反射膜图案包括形成由金属材料制成的图案。

7.根据权利要求6所述的用于制造对准主玻璃件的方法，其中形成所述多个反射膜图案包括形成由钼和钨中至少之一制成的图案。

8.根据权利要求5所述的用于制造对准主玻璃件的方法，其中形成所述多个反射膜图案包括形成比所述多个开口小的所述多个反射膜图案。

9.一种使用对准主玻璃件拉紧气相沉积掩膜的方法，该方法包括：

提供所述气相沉积掩膜，所述气相沉积掩膜具有用于沉积有机材料的多个开口；

提供用于拉紧所述气相沉积掩膜的所述对准主玻璃件，所述对准主玻璃件包括仅被形成在与所述气相沉积掩膜的所述多个开口相对应的位置处的多个反射膜图案；

使用拉紧装置拉紧所述气相沉积掩膜；

使得所述多个开口的中心和所述多个反射膜图案的中心彼此相重合；

获得反射光图像，该反射光图像指示所述气相沉积掩膜的所述多个开口的中心和所述多个反射膜图案的中心被对准的对准状态；以及

分析所述反射光图像并且确定在拉紧之后所述气相沉积掩膜的所述多个开口和所述多个反射膜图案被对准的所述对准状态，

其中所述反射光图像中的在对准的多个开口和多个反射膜图案之间的第一区域对应于暗部分。

10.根据权利要求9所述的使用对准主玻璃件拉紧气相沉积掩膜的方法，进一步包括：在所述多个开口的中心不与所述多个反射膜图案的中心相重合时，基于所述气相沉积掩膜的第一轴和第二轴重复执行拉紧的步骤到分析的步骤。

11.根据权利要求9所述的使用对准主玻璃件拉紧气相沉积掩膜的方法，其中所述第一区域由对准的多个开口的外边界和相应的多个反射膜图案的外边界之间的区域来限定。

12.根据权利要求11所述的使用对准主玻璃件拉紧气相沉积掩膜的方法，其中所述反射光图像进一步包括除了所述第一区域之外的第二区域，所述第二区域形成所述反射光图像上的亮部分。

13.根据权利要求9所述的使用对准主玻璃件拉紧气相沉积掩膜的方法，其中使得所述多个开口的中心和所述多个反射膜图案的中心相重合包括：

基于第一轴测量所述多个开口的宽度并且确定所述多个开口的中心；

基于第二轴测量所述多个反射膜图案的宽度并且确定所述多个反射膜图案的中心；以及

移动所述气相沉积掩膜或所述对准主玻璃件以使得所述多个开口的宽度的中心和所述多个反射膜图案的宽度的中心彼此相重合。

14.根据权利要求13所述的使用对准主玻璃件拉紧气相沉积掩膜的方法，其中使得所述多个开口的中心和所述多个反射膜图案的中心相重合进一步包括基于所述第一轴和所述第二轴重复执行测量的步骤到移动的步骤。

15.根据权利要求9所述的使用对准主玻璃件拉紧气相沉积掩膜的方法，其中分析所述反射光图像并且确定所述对准状态包括：

基于第一轴测量所述多个开口的宽度并且确定所述多个开口的宽度的中心；

基于第二轴测量所述多个反射膜图案的宽度并且确定所述多个反射膜图案的宽度的中心；以及

确定所述多个开口的宽度的中心与所述多个反射膜的宽度的中心是否相重合。