[发明专利]对准主玻璃件及其制造方法和拉紧气相沉积掩膜的方法

说明书

技术领域

示例实施例涉及用于拉紧气相沉积掩膜的对准主玻璃件、制造该对准主玻璃件的方法以及使用该对准主玻璃件拉紧该气相沉积掩膜的方法。更具体地说，示例实施例涉及用于拉紧气相沉积掩膜以沉积有机发光显示装置的有机发射层的对准主玻璃件、制造该对准主玻璃件的方法以及使用该对准主玻璃件拉紧该气相沉积掩膜的方法。

背景技术

近来，被认为是自发光型显示装置的电致发光(EL)装置由于例如宽视角、良好对比度和快速响应特性而作为下一代显示装置获得了许多关注。例如，有机EL装置可以包括在透明绝缘基板上形成为预定图案的一系列第一电极、通过真空沉积形成在透明绝缘基板上的有机发射层，以及形成在有机发射层上以充当与第一电极交叉的阴极电极的一系列第二电极。

在制造具有以上所述这种结构的有机EL装置中，第一电极可以通过湿法蚀刻，例如光刻法被图案化。不过，在光刻法被应用于蚀刻第二电极时，液体可能渗入有机发射层与第二电极之间的界面中，同时所使用的抗蚀剂被剥落并且第二电极被蚀刻，从而恶化有机EL装置的性能和寿命特性。例如，如果在有机层的至少一部分形成之后执行湿法蚀刻工艺，则湿气可能在湿法蚀刻工艺期间渗入或残留在有机层中，从而显著恶化完成的有机EL装置的性能和寿命特性。

鉴于上述情况，有机层，即实施预定颜色的发射有机层，以及形成在有机层上的第二电极可以通过沉积被图案化，例如被微图案化。例如，沉积方法可以包括使用在其主薄板中具有间隔开预定距离的一系列长狭缝的掩膜。在另一示例中，沉积方法可以使用由具有成网格图案的狭缝部分和桥部分的金属薄板制成的掩膜。

在又一示例中，沉积方法可以使用通过施加至金属薄板，例如气相沉积掩膜的拉力例如借助粘附或焊接被固定至该金属薄板的支撑框架。例如，参照图1，拉力可以利用拉紧装置被施加到气相沉积掩膜1，该气相沉积掩膜1包括位于基板2上的多个开口3，这样材料可以通过开口3被沉积以形成期望的图案。不过，尽管金属薄板与基板之间有粘附力，但是金属薄板中的开口可能由于金属薄板的重量而从基板下陷，即使金属薄板的边缘可以在框架拉力下得到支撑。另外，由于在形成有机薄膜期间温度升高而引起的掩膜的热膨胀可能促进开口的这种下陷。

发明内容

示例实施例提供一种用于拉紧气相沉积掩膜的对准主玻璃件，其通过将光反射在气相沉积掩膜和对准主玻璃件上能够获得具有清晰且明确边界的反射光图像。

示例实施例还提供一种制造用于拉紧气相沉积掩膜的对准主玻璃件的方法，其通过将光反射在气相沉积掩膜和对准主玻璃件上能够获得具有清晰且明确边界的反射光图像。

示例实施例还提供一种使用用于拉紧气相沉积掩膜的对准主玻璃件拉紧气相沉积掩膜的方法，其通过将光反射在气相沉积掩膜和对准主玻璃件上能够获得具有清晰且明确边界的反射光图像。

根据示例实施例的一方面，提供一种在拉紧气相沉积掩膜以沉积有机材料中，用于对准形成于所述气相沉积掩膜中的多个开口的对准主玻璃件，该对准主玻璃件包括：透明基板；和位于所述透明基板的至少一个表面上的反射膜图案，所述反射膜图案仅位于与所述气相沉积掩膜的所述多个开口相对应的位置处。

所述反射膜图案可以包括金属材料。

所述反射膜图案可以包括钼(Mo)和钨(W)中至少之一。

所述反射膜图案可以比所述多个开口小。

根据示例实施例的一方面，提供一种用于制造对准主玻璃件的方法，所述对准主玻璃件用于拉紧具有用于沉积有机材料的多个开口的气相沉积掩膜，所述方法包括：提供透明基板；以及在所述透明基板的至少一个表面上形成反射膜图案，使得所述反射膜图案仅位于与所述气相沉积掩膜的所述多个开口相对应的位置处。

形成所述反射膜图案可以包括形成由金属材料制成的图案。

形成所述反射膜图案可以包括形成由钼(Mo)和钨(W)中至少之一制成的图案。

形成所述反射膜图案可以包括形成比所述多个开口小的所述反射膜图案。