[发明专利]触控面板及其形成方法与显示系统

权利要求书

1.一种触控面板的形成方法，其特征在于，所述的触控面板的形成方法包括：

提供一基底；

形成一透明导电层于所述基底上；

形成一导电层于所述透明导电层上；

形成一光阻层于所述导电层上，所述光阻层具有一第一部分、一第二部分及至少一开口，所述第一部分的厚度大于所述第二部分的厚度，且所述开口露出部分所述导电层；

以所述光阻层为遮罩，刻蚀移除露出的所述导电层及其下方的所述透明导电层，以使所述透明导电层形成一透明导电图案层；

移除所述光阻层的所述第二部分以露出位于其下方的部分所述导电层；

以所述光阻层为遮罩，刻蚀移除露出的所述导电层，以使所述导电层形成一走线层；以及

移除所述光阻层。

2.如权利要求1所述的触控面板的形成方法，其特征在于，所述光阻层的形成步骤包括：

形成一光阻材料层于所述导电层上；

设置一光罩于所述光阻材料层上，所述光罩具有一第一透光部分、一第二透光部分以及至少一透光开口，所述第一透光部分的遮光率大于所述第二透光部分的遮光率，所述透光开口露出部分所述光阻材料层；以及

进行一曝光显影工艺以将所述光阻材料层图案化为所述光阻层。

3.如权利要求1所述的触控面板的形成方法，其特征在于，以所述光阻层为遮罩，刻蚀移除露出的所述导电层及其下方的部分所述透明导电层的步骤包括以一第一刻蚀剂刻蚀移除露出的所述导电层，接着以一第二刻蚀剂刻蚀移除其下方的部分所述透明导电层。

4.如权利要求1所述的触控面板的形成方法，其特征在于，移除所述光阻层的所述第二部分的步骤包括于所述光阻层的上进行一灰化工艺以移除所述光阻层的所述第二部分。

5.如权利要求4所述的触控面板的形成方法，其特征在于，所述灰化工艺包括一等离子体处理工艺。

6.如权利要求1所述的触控面板的形成方法，其特征在于，在移除所述光阻层的所述第二部分的步骤之后，所述光阻层的所述第一部分的厚度减小。

7.如权利要求1所述的触控面板的形成方法，其特征在于，所述透明导电图案层包括：

一第一梳状电极，具有多个第一电极，且所述第一电极沿着一方向延伸且彼此电性连接；以及

一第二梳状电极，具有多个第二电极，所述第二电极与所述第一电极交错设置，且所述第二电极是沿着所述方向的相反方向延伸且彼此电性连接，其中所述第一梳状电极与所述第二梳状电极彼此电性绝缘。

8.如权利要求1所述的触控面板的形成方法，其特征在于，所述透明导电图案层包括：

沿着一第一方向延伸的至少一第一电极串，所述第一电极串包括多个第一电极图案，且所述第一电极图案沿着所述第一方向上彼此电性连接；以及

沿着一第二方向排列的多个第二电极图案，其中各所述第二电极图案彼此间隔设置，其中所述第一电极串与所述第二电极图案彼此电性绝缘。

9.如权利要求8所述的触控面板的形成方法，其特征在于，所述的触控面板的形成方法更包括：

形成一介电层于所述基底及部分所述第一电极串上；以及

形成至少一桥接结构于所述介电层及部分所述第二电极图案上，其中所述桥接结构电性连接所述第二电极图案，且所述介电层电性隔离所述桥接结构与所述第一电极串。

10.如权利要求9所述的触控面板的形成方法，其特征在于，所述桥接结构包括一透明导电材料。

11.如权利要求1所述的触控面板的形成方法，其特征在于，所述的触控面板的形成方法更包括设置一透明盖板于所述基底上，其中所述导电层及所述透明导电层位于所述基底与所述透明盖板之间。

12.一种触控面板，其特征在于，所述的触控面板包括：

一基底；

一透明导电图案层，设置于所述基底之上；以及

一走线层，形成于所述透明导电图案层之上，其中所述走线层的一下表面与所述基底之间是由部分的所述透明导电图案层隔开。

13.如权利要求12所述的触控面板，其特征在于，所述走线层的一侧面与所述透明导电图案层的一侧面大抵共平面。