[发明专利]触控面板及其形成方法与显示系统

说明书

技术领域

本发明是有关于触控面板及其形成方法，且特别是有关于具较少微影工艺的触控面板的形成方法。

背景技术

触控面板一般于触控感测区采用铟锡氧化(ITO)层作为触控电极，并以金属层作为与触控电极电性连接的走线。因此，触控面板的形成需涉及至少两道光罩的微影工艺，其分别为铟锡氧化层的微影工艺及金属层的微影工艺。如此，往往造成显示面板工艺的时间拉长与成本的提升。此外，两道微影工艺之间的对准误差亦可能影响触控面板的品质。

因此，业界亟需新颖的触控面板工艺，以期能减轻及/或避免上述问题。

发明内容

本发明一实施例提供一种触控面板的形成方法，包括：提供一基底；形成一透明导电层于该基底上；形成一导电层于该透明导电层上；形成一光阻层于该导电层上，该光阻层具有一第一部分、一第二部分及至少一开口，该第一部分的厚度大于该第二部分的厚度，且该开口露出部分该导电层；以该光阻层为遮罩，刻蚀移除露出的该导电层及其下方的该透明导电层，以使该透明导电层形成一透明导电图案层；移除该光阻层的该第二部分以露出位于其下方的部分该导电层；以该光阻层为遮罩，刻蚀移除露出的该导电层，以使该导电层形成一走线层；以及移除该光阻层。

本发明一实施例提供一种触控面板，包括：一基底；一透明导电图案层，设置于该基底之上；以及一走线层，形成于该透明导电图案层之上，其中该走线层的一下表面与该基底之间是由部分的该透明导电图案层隔开。

本发明一实施例提供一种显示系统，包括：一显示面板；以及一触控面板，设置于该显示面板上，其中该触控面板包括：一基底；一透明导电图案层，设置于该基底之上；以及一走线层，形成于该透明导电图案层之上，其中该走线层的一下表面与该基底之间隔有部分该透明导电图案层。

本发明实施例通过形成厚度不均一的光阻层，可在仅使用一道光罩的图案化工艺下形成触控面板的触控感测电极及走线，可有效节省工艺时间及工艺成本，并可提高触控面板的可靠度。

附图说明

图1A是显示根据本发明一实施例的触控面板的上视图；

图1B是显示根据本发明一实施例的触控面板的局部上视图；

图2A-是图2F显示根据本发明一实施例的触控面板的工艺剖面图；

图3A是显示根据本发明一实施例的触控面板的上视图；

图3B是显示根据本发明一实施例的触控面板的局部上视图；

图4A-图4G是显示根据本发明一实施例的触控面板的工艺剖面图；

图5A-图5B是分别显示根据本发明实施例的显示系统的剖面图。

附图标号：

10、10’～触控面板；

20～显示面板；

30～透明盖板；

100～基底；

102、102a～透明导电层；

102a1、102a2～电极图案；

103～侧面；

104、104a～导电层；

104b～走线层；

105～侧面；

106～光阻材料层；

106a、106b～光阻层；

106a1、106a2～部分；108～介电层；

110～桥接结构；

200～光罩；

200a、200b～部分；

202～光线；

204～开口；

R1、R2、R3～区域；

T1、T2、T3～厚度。

具体实施方式

以下将详细说明本发明实施例的制作与使用方式。然应注意的是，本发明提供许多可供应用的发明概念，其可以多种特定型式实施。文中所举例讨论的特定实施例仅为制造与使用本发明的特定方式，非用以限制本发明的范围。此外，在不同实施例中可能使用重复的标号或标示。这些重复仅为了简单清楚地叙述本发明，不代表所讨论的不同实施例及/或结构之间具有任何关连性。再者，当述及一第一材料层位于一第二材料层上或之上时，包括第一材料层与第二材料层直接接触或间隔有一或更多其他材料层的情形。

图1A是显示根据本发明一实施例的触控面板的上视图。如图1A所示，在一实施例中，触控面板10可包括基底100。基底100上形成有透明导电图案层102a，其可包括多个感测电极。基底100上还形成有走线层104b，其电性连接这些感测电极以传递触控信号。