[发明专利]通过调整陶瓷品表面粗糙度来改善设备颗粒状况的方法无效
| 申请号： | 201110407858.6 | 申请日： | 2011-12-09 |
| 公开（公告）号： | CN103159508A | 公开（公告）日： | 2013-06-19 |
| 发明（设计）人： | 温海东;夏志刚;李顺义 | 申请（专利权）人： | 上海华虹NEC电子有限公司 |
| 主分类号： | C04B41/91 | 分类号： | C04B41/91;H01L21/67 |
| 代理公司： | 上海浦一知识产权代理有限公司 31211 | 代理人： | 高月红 |
| 地址： | 201206 上*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 通过 调整 陶瓷 表面 粗糙 改善 设备 颗粒 状况 方法 | ||
1.一种调整陶瓷品表面粗糙度来改善设备颗粒状况的方法，其特征在于：所述方法是改善DPS Trench etch刻蚀工艺中出现的颗粒状况方法，步骤包括：通过将dome陶瓷品的表面粗糙度控制在2.5～3.5μm之间。
2.如权利要求1所述的方法，其特征在于：所述表面粗糙度为表面粗糙度平均值。
3.如权利要求1所述的方法，其特征在于：所述DPS Trench etch刻蚀工艺，是以Cl2/HBr进行的DPS Trench etch刻蚀工艺。
4.如权利要求3所述的方法，其特征在于：所述Cl2/HBr的体积比为20∶90。
5.如权利要求1所述的方法，其特征在于：所述方法，步骤包括：
(1)对废弃的dome陶瓷品，进行研磨、喷沙、再研磨处理；
(2)将dome陶瓷品的表面粗糙度平均值控制在2.5～3.5μm。
6.如权利要求5所述的方法，其特征在于：所述步骤(1)中，废弃的dome陶瓷品是表面粗糙度大于1.5μm的dome陶瓷品。
7.如权利要求5所述的方法，其特征在于：所述步骤(1)中，用化学药液研磨、用细沙进行喷沙、再化学药液研磨处理。
8.如权利要求5所述的方法，其特征在于：所述步骤(2)中，用表面粗糙度仪器检测dome陶瓷品的面内13点，来确认dome陶瓷品的表面粗糙度平均值已控制在2.5～3.5μm。
9.如权利要求8所述的方法，其特征在于：所述面内13点为：面内中心一点，中心点外两圈各6点。
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