[发明专利]基于光刻工艺窗口的OPC修正方法

权利要求书

1.一种基于光刻工艺窗口的OPC修正方法，其特征在于，对光刻版图中的不同图形，在计算图形的边缘位置误差时，设定不同的光刻模型权重。

2.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，根据图形测量点的光罩误差加强因子、光强最大值、光强最小值和斜率设定所述权重。

3.根据权利要求2所述的方法，其特征在于，设定权重的步骤包括：

1)使用最佳光刻条件模型模拟标准图形，计量出标准图形的光强最大值I_max、光强最小值I_min和斜率Slope值的范围，获得标准图形的光刻原始数据；

2)根据步骤1获得的标准图形的光刻原始数据，计算出标准图形的光罩误差加强因子MEEF值的范围；

3)将设计规则处的I_max、I_min、Slope和MEEF的值与标准图形的I_max、I_min、Slope和MEEF的值的范围进行比较，确定各个参数的影响因子；

4)构建非最佳光刻条件模型的权重方程W_i＝f(I_max，I_min，Slope，MEEF)；

5)使用最佳光刻条件模型模拟光刻版图，得到光刻版图处的I_max、I_min、Slope和MEEF，代入步骤4)的权重方程，计算出此光刻版图处的权重。

4.根据权利要求3所述的方法，其特征在于，步骤3)中，所述设计规则是指当前层的最小线宽、最小空隙和最小周期，所述最小周期为最小线宽和最小空隙之和。

5.根据权利要求3所述的方法，其特征在于，步骤4)中，W_i是I_max、I_min、Slope和MEEF的分段函数或者一阶函数。