[发明专利]一种用于电蚀刻非晶合金材料件的电蚀刻液及蚀刻方法有效
申请号: | 201110421439.8 | 申请日: | 2011-12-15 |
公开(公告)号: | CN103160909A | 公开(公告)日: | 2013-06-19 |
发明(设计)人: | 宫清;林宏业;连俊兰;高乡明;刘青松 | 申请(专利权)人: | 比亚迪股份有限公司 |
主分类号: | C25F3/08 | 分类号: | C25F3/08 |
代理公司: | 北京清亦华知识产权代理事务所(普通合伙) 11201 | 代理人: | 宋合成 |
地址: | 518118 广东省*** | 国省代码: | 广东;44 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 用于 蚀刻 合金材料 方法 | ||
技术领域
本发明涉及一种蚀刻液及蚀刻方法,更具体的,本发明涉及一种用于电蚀刻非晶合金材料件的电蚀刻液及蚀刻方法。
背景技术
目前,市场上已经公开了一种金属表面的装饰方法,其中,该方法包括在金属基材表面丝印形成图案,接着依次进行化学蚀刻、电化学抛光和沉积金属层。其中,采用了电化学抛光步骤对蚀刻后的金属板进行适度抛光,使装饰后的金属板蚀刻部分的光泽度从现有技术的20GU以下提高到70GU以上,且非蚀刻部分的光泽度为600GU以上,可以使装饰后的金属板获得光亮与半光亮相间的效果,从而提高了金属装饰板的外观美观效果。
但是电化学抛光只能增加工件的光亮度,并不具备蚀刻效果。
发明内容
本发明旨在至少解决上述技术问题之一。
为此,本发明的一个目的在于提出一种用于电蚀刻非晶合金材料件的电蚀刻液,该电蚀刻液至少具有下列优点之一:蚀刻效果好,稳定性好,安全性高。
本发明的另一个目的在于提出一种非晶合金材料件的蚀刻方法,该蚀刻方法至少具有下列优点之一:方法简单易行,操作过程安全性高。为了实现上述目的,根据本发明第一方面实施例的用于电蚀刻非晶合金材料件的电蚀刻液,所述电蚀刻液含有5~15wt%的抛光剂,5~15wt%的蚀刻剂以及0.7~7wt%的缓蚀剂。
根据本发明实施例的用于电蚀刻非晶合金材料件的电蚀刻液,由于抛光剂可以起电抛光作用,提升工件蚀刻区域的光泽度及去除工件化学蚀刻后的尖锐部分,掉高蚀刻区的平整性与均匀性,蚀刻剂可以起蚀刻作用,提升工件蚀刻后的尺寸精度,电蚀刻液在增加工件光亮度的同时,还能具备蚀刻作用,且在缓蚀剂作用下,蚀刻区底纹光滑、光泽度高,可有效提高工件表面装饰性。
另外,根据本发明上述实施例的用于电蚀刻非晶合金材料件的电蚀刻液,还可以具有如下附加的技术特征:
根据本发明的一个实施例,所述抛光剂为油酸。
根据本发明的一个实施例,所述蚀刻剂为氯化盐。
根据本发明的一个实施例,所述非晶合金材料件为锆基非晶合金材料件,所述蚀刻剂为氯化锆。
根据本发明的一个实施例,所述缓蚀剂为羧酸盐和有机膦酸盐,其中所述电蚀刻液含有0.5~5wt%的羧酸盐和0.2~2wt%的有机膦酸盐。
根据本发明的一个实施例,所述羧酸盐为选自甲酸钠、乙酸钠、苯甲酸钠、硬脂酸钠、月桂酸钠、二甲苯磺酸钠中的一种或多种。
根据本发明的一个实施例,所述羧酸盐为硬脂酸钠、月桂酸钠或其组合。
根据本发明的一个实施例,所述有机膦酸盐为选自氨基三甲叉膦酸、乙二胺四甲叉膦酸钠、乙二胺四甲叉膦酸、二乙烯三胺五甲叉膦酸、2-膦酸丁烷-1,2,4-三羧酸中的一种或多种。
根据本发明的一个实施例,所述有机膦酸盐为乙二胺四甲叉膦酸钠。
另外,根据本发明第二方面实施例的非晶合金材料件的蚀刻方法,包括以下步骤:a)在所述非晶合金材料件表面设置掩模;b)使用化学蚀刻液对表面设置有掩模的非晶合金材料件进行化学蚀刻;c)使用电蚀刻液对化学蚀刻后的非晶合金材料件进行电蚀刻,其中所述电蚀刻液含有5~15wt%的抛光剂,5~15wt%的蚀刻剂以及0.7~7wt%的缓蚀剂;以及d)除去电蚀刻后的非晶合金材料件表面的掩模,得到带有蚀刻图案的非晶合金材料件。
根据本发明上述实施例的非晶合金材料件的蚀刻方法,由于在化学蚀刻之后还使用根据本发明第一方面实施例的电蚀刻液进行电蚀刻,从而可以更好的控制蚀刻精度尺寸,电蚀刻还有抛光的作用,使蚀刻区底纹光滑且光泽度高,提高表面装饰性。
根据本发明上述实施例的非晶合金材料件的蚀刻方法,还可以具有如下附加的技术特征:
根据本发明的一个实施例,所述非晶合金材料件为锆基非晶合金材料件,所述化学蚀刻液含有10~30wt%盐酸、10~30wt%硝酸铁、02~2wt%三聚磷酸盐及0.2%~2wt%苯并三唑或苯并三唑衍生物。
根据本发明的一个实施例,在所述步骤c)中,使所述非晶合金材料件的设置有所述掩模的表面与所述电蚀刻液接触且以所述非晶合金材料件为正极,以不锈钢、铅板或石墨板为负极,在所述正极和负极之间施加8~20V直流电压及0.5A~2A/dm电流以便进行电蚀刻。
根据本发明的一个实施例,所述电蚀刻在常温下进行,所述电蚀刻的时间为3~20分钟。
根据本发明的一个实施例,所述抛光剂为油酸。
根据本发明的一个实施例,所述蚀刻剂为氯化盐。
根据本发明的一个实施例,所述非晶合金材料件为锆基非晶合金材料件,所述蚀刻剂为氯化锆。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于比亚迪股份有限公司,未经比亚迪股份有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201110421439.8/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:抗拔埋入式门式刚架刚接柱脚及施工方法
- 下一篇:一种网状沟槽阴极结构