[发明专利]光学分析装置

权利要求书

1.一种光学分析装置，其特征在于包括：

聚光光学系统，对光源发出的光进行聚光；

检测光学系统，设置在由所述聚光光学系统聚光后的光的光路上，对所述光进行检测；

测量单元，能在位于所述聚光光学系统和所述检测光学系统之间的光路上的测量位置、以及从所述测量位置退避开的退避位置之间移动；

基准修正构件，能在位于所述聚光光学系统和所述检测光学系统之间的光路上的基准位置、以及从所述基准位置退避开的退避位置之间移动，并且使在所述基准位置上通过的光的焦点位置与通过位于所述测量位置上的测量单元的光的焦点位置基本相同；以及

移动机构，用于移动所述测量单元和所述基准修正构件，选择性地使所述测量单元移动到所述测量位置或者使所述基准修正构件移动到所述基准位置，

至少所述基准修正构件的在所述基准位置上与光路相交的外表面部分，由对腐蚀性气体具有耐腐蚀性的耐腐蚀性材料形成。

2.根据权利要求1所述的光学分析装置，其特征在于，所述基准修正构件包括：光学玻璃；所述耐腐蚀性材料构成的耐腐蚀性板材，与所述光学玻璃的光入射面和光射出面分别相对设置；以及密封构件，对所述光学玻璃和所述耐腐蚀性板材之间进行密封。

3.根据权利要求1所述的光学分析装置，其特征在于，通过至少对光学玻璃的光入射面和光射出面涂布所述耐腐蚀性材料，构成所述基准修正构件。

4.根据权利要求1所述的光学分析装置，其特征在于，通过隔着垫片重叠由所述耐腐蚀性材料组成的多枚耐腐蚀性板材，构成所述基准修正构件。