[发明专利]光学分析装置

说明书

技术领域

本发明涉及光谱分析装置等光学分析装置。

背景技术

如专利文件1(日本专利公开公报特开2002-82050号)所示，已知现有的光谱分析装置包括：光源；聚光透镜，对来自该光源的光进行聚光；光谱分析部，具有多通道检测器，对来自所述光源的光进行光谱分析；以及测量单元，设置在聚光透镜和光谱分析部之间。

所述光谱分析装置的浓度测量采用吸收光谱法。通常，所述吸收光谱法通过在由校正预先得到的校准线M_i上乘以吸光度光谱Abs(λ_i)，计算出浓度c(参照下式)。

公式1

c=Σi=1cMi·Abs(λi)]]>λ₁，λ₂，…，λ_n为测量波长

此处，根据对测量单元的入射光的强度I₀(λ_i)和来自测量单元的透射光的强度I_s(λ_i)，用下式表示吸光度光谱Abs(λ_i)。

公式2

Abs(λi)=log[Io(λi)Is(λi)]]]>

此时，直接测量入射光的强度I₀(λ_i)较为困难，在现有的光谱分析装置中，利用从聚光透镜和光谱分析部之间去除测量单元后的状态(基准光测量)下光谱分析部所测量的光的强度，即基准光的强度I_r(λ_i)来代替入射光的强度I₀(λ_i)。

公式3

Abs(λi)=log[Ir(λi)Is(λi)]]]>