[发明专利]组件、用于制造组件的方法和用于激光烧蚀的装置有效
申请号: | 201110433760.8 | 申请日: | 2011-09-29 |
公开(公告)号: | CN102530826A | 公开(公告)日: | 2012-07-04 |
发明(设计)人: | F-P·卡尔茨 | 申请(专利权)人: | 英飞凌科技股份有限公司 |
主分类号: | B81B7/00 | 分类号: | B81B7/00;B81C1/00;B23K26/36 |
代理公司: | 中国专利代理(香港)有限公司 72001 | 代理人: | 臧永杰;卢江 |
地址: | 德国瑙伊比*** | 国省代码: | 德国;DE |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 组件 用于 制造 方法 激光 装置 | ||
1.组件(100),具有
-衬底(90),
-涂层(10),其中,涂层(10)至少部分覆盖衬底(90)以及其中涂层(10)被构造用于至少部分地借助激光烧蚀被剥蚀,
其特征在于,在衬底(90)与涂层(10)之间至少部分地布置激光探测层(20),其中,激光探测层(20)被构造用于产生结束激光烧蚀的探测信号(54)。
2.按权利要求1所述的组件(100),其中,组件(100)是半导体组件。
3.按权利要求2所述的组件(100),其中,组件(100)具有MEMS或MOEMS。
4.按前述权利要求之一所述的组件(100),其中,激光探测层(20)是荧光层。
5.按权利要求4所述的组件(100),其中,荧光层是熙提层。
6.按前述权利要求之一所述的组件(100),其中,组件(100)具有接触区(40)以及其中涂层(10)至少部分覆盖接触区(40)。
7.按前述权利要求之一所述的组件(100),其中,涂层(10)是聚合物层。
8.按权利要求7所述的组件(100),其中,涂层(10)由聚对二甲苯组成。
9.用于激光烧蚀的装置(200),具有
-激光器(50),其中,激光器(50)被布置用于剥蚀组件(100)的涂层(10),
-探测器(60),其中,探测器(60)被构造用于探测由施加在组件(100)上的激光探测层(20)发出的探测信号(54)。
10.按权利要求9所述的用于激光烧蚀的装置(200),其中,探测器(60)是光电二极管和探测信号(54)是光信号。
11.按权利要求9或10之一所述的用于激光烧蚀的装置(200),其中,用于激光烧蚀的装置(200)附加地具有镜装置和/或透镜装置(55),其中,镜装置和/或透镜装置(55)被构造用于划分和/或聚焦激光器(50)的激光束。
12.按权利要求9至11之一所述的用于激光烧蚀的装置(200),其中,激光器(50)是受激二聚物激光器。
13.用于制造组件(100)的方法,具有以下步骤:
-在组件(100)的衬底(90)上施加激光探测层(20),
-在组件(100)的衬底(90)上施加涂层(10),
-涂层(10)借助激光器(50)剥蚀,
-通过激光探测层(20)在由激光器(50)产生的激光束(52)击中激光探测层(20)时产生探测信号(54),
-检测探测信号(54),
-在探测信号(54)的基础上控制激光烧蚀。
14.按权利要求13所述的用于制造组件(100)的方法,其中,组件(100)具有传感区(30),该方法此外具有以下步骤:
-在组件(100)的传感区(30)上施加激光探测层(20),
-借助激光器(50)剥蚀传感区(30)上方的涂层(10)。
15.按权利要求13或14之一所述的用于制造组件(100)的方法,其中,衬底(90)具有接触区(40),该方法此外具有以下步骤:
-在组件(100)的接触区(40)上施加激光探测层(20),
-借助激光器(50)剥蚀接触区(40)上方的涂层(10)。
16.按权利要求13至16之一所述的用于制造组件(100)的方法,其中,激光探测层(20)是荧光层和所属的探测信号(54)是光信号,该方法此外具有以下步骤:
-借助光电二极管测量光信号的辐射强度,
-在辐射强度的基础上控制激光烧蚀。
17.按权利要求13至16之一所述的用于制造组件(100)的方法,其中,激光烧蚀在达到激光探测层(20)时被结束。
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