[发明专利]光学邻近修正方法

权利要求书

1.一种光学邻近修正方法，包括：

提供一有多条金属线条组成的金属层图形，该金属层图形对应于包括凹凸结构的金属线条；

将所述金属层图形上对应于所述金属线条的尺寸进行缩进处理，其中在对应于所述凹凸结构处缩进第一缩进量，非对应于所述凹凸结构处缩进第二缩进量；

对所述金属层图形进行仿真光学邻近修正，得到仿真的修正图形；

判断所述仿真的修正图形中金属线条的仿真尺寸与实际尺寸之间的差别；

根据所述差别修改第一缩进量和/或第二缩进量的值；

以调整至所述差别为零时的第一缩进量、第二缩进量对该金属层图形进行缩进。

2.如权利要求1所述的光学邻近修正方法，其特征在于：所述金属线条中的凹凸结构系由预定手段确定。

3.如权利要求1所述的光学邻近修正方法，其特征在于：所述第一缩进量大于第二缩进量。

4.如权利要求1所述的光学邻近修正方法，其特征在于：所述仿真光学邻近修正包括步骤：

根据所述金属层图形的特征尺寸确定光刻工艺参数；

根据所述光刻工艺参数确定光学邻近修正模型，建立光学邻近修正的运算程序；

对所述缩进处理之后的金属层图形进行所述光学邻近修正的运算，得到该金属层图形的仿真修正图形。

5.如权利要求4所述的光学邻近修正方法，其特征在于：所述光刻工艺参数包括曝光光路的光学参数、光刻胶材料的材料参数以及刻蚀工艺的化学参数。

6.如权利要求1所述的光学邻近修正方法，其特征在于：在所述修改第一缩进量和/或第二缩进量的步骤中，增加仿真尺寸大于实际尺寸时的第一缩进量和/或第二缩进量，及/或减少仿真尺寸小于实际尺寸时的第一缩进量和/或第二缩进量。