[发明专利]一种光伏玻璃镀膜制程腔气体导入装置

说明书

技术领域

本发明关于一种光伏玻璃镀膜制程腔气体导入装置，特别关于一种镀膜制程腔气体导入装置，达到气体均匀分布于镀膜制程腔内，完成均匀分布的电浆范围。

背景技术

当前，镀膜技术中之溅镀法(Sputtering)，其原理是在一真空腔体中通入工作气体，通常为Ar，并以靶材为阴极，使得工作气体在高压电场作用下被解离成离子与电子状态，形成电浆，电浆中的正离子于高压电场中会加速移动并轰击阴极靶材(Target)的表面，使靶材原子溅飞出并沉积、附着在光伏玻璃的表面上，以形成薄膜；现有一种光伏玻璃镀膜制程腔气体导入装置，水平设置于制程腔用以将工作气体导入于该腔体中，然而，由于该气体引入只有中心进气点，相当容易造成工作气体过度集中于中间段部，而该制程腔体之上、下段部处的气体量却较为稀薄、不均的现象，如此一来，不仅会连带影响到该制程腔体内部所通入工作气体的扩散均匀性，还会影响溅镀作业之质量效率，尤其所述不良现象的负面影响，将随着真空溅镀设备之尺寸规格日渐增大而更趋明显、严重；本案创作人鉴于上述现有真空溅镀设备的进气装置具所衍生的各项问题及不足，乃亟思加以改良创新，并经多年苦心孤诣潜心研究后，终于成功研发完成一种光伏玻璃镀膜制程腔气体导入装置。

发明内容

本发明在于提供一种光伏玻璃镀膜制程腔气体导入装置，主要包含：一反应制程腔体、一气体导引管路、一导引管路框架所组成，通过外接入之气体透过气体导引管所设置的气体导入接头进入，气体导引管路上设有依照气体导入管路长度分布平均的小孔作为气体喷出口，形成一侧边向下喷出的动作，导引管路框架支撑气体导引管路，使其能水平置放于导引管路框架上，使得制成气体能有效集中于反应区，完成一种光伏玻璃镀膜制程腔气体导入装置，藉此，可达到有效均匀分布气体于镀膜制程腔内部，完成均匀分布之电浆粒子内。本发明有益效果为：1.      本发明利用管路开孔的密度不同达到气体导入均匀分布于制程腔体中，结构简单，2.      本发明后续不需要维护保养，节省保养成本。

具体实施方式

    下面结合附图对本发明做进一步说明。

请参阅第一图、第二图及第三图所示，为一种光伏玻璃镀膜制程腔气体导入装置，其包括一导引管路框架12、气体导引管路11、该气体导引管路11水平架设于导引管路框架12上，气体导引管路框架12上设有固定架21，用以固定气体导引管路11，该气体透过气体导入接头22引入，引入之气体透过气体导引管路11上设置的小孔31向外喷出，该小孔31以不同密度分布于气体导引管路11上，通常为中间段较疏，上下两段较密集，以防止气体引入后过度集中于中间段，造成镀膜制程腔气体分布不均匀，而致使电浆分布也同时不均匀。

本发明在突破先前之技术结构下，确实已达到所欲增进之功效，且也非熟悉该项技艺者所易于思及，其所具之进步性、实用性，显已符合发明专利之申请要件，惟上列详细說明系针对本发明之一可行实施例之具体說明，该实施例并非用以限制本发明之专利范围，而凡未脱離本发明技艺精神所为之等效实施或变更，均应包含于本案之专利范围中。

   第一图系为本发明之一种光伏玻璃镀膜制程腔气体导入装置示意图,第二图系为本发明之一种光伏玻璃镀膜制程腔气体导入装置气体导引管路示意图,第三图系为本发明之一种光伏玻璃镀膜制程腔气体导入装置气体导引管路开孔示意图。

主要组件符号说明：11．．．气体导引管路12．．．导引管路框架21．．．固定架22．．．气体导入接头31．．．小孔。