[发明专利]防静电性能优异的离型膜及其制造方法无效
申请号: | 201110460486.3 | 申请日: | 2011-12-28 |
公开(公告)号: | CN102582174A | 公开(公告)日: | 2012-07-18 |
发明(设计)人: | 皇甫绤;金义城;裴钟佑 | 申请(专利权)人: | 栗村化学株式会社 |
主分类号: | B32B27/06 | 分类号: | B32B27/06;B32B33/00;B32B37/15 |
代理公司: | 北京中北知识产权代理有限公司 11253 | 代理人: | 杨雪松 |
地址: | 韩国*** | 国省代码: | 韩国;KR |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 静电 性能 优异 离型膜 及其 制造 方法 | ||
1.包含基材膜及离型层的离型膜,上述的离型膜是包括含有粘着剂和防静电剂的防静电层的离型膜。
2.根据权利要求1所述的离型膜,上述的防静电层中,相对于粘着剂的重量5~25份,防静电剂的重量为1~30份。
3.根据权利要求1或者2所述的离型膜,上述的防静电剂从聚乙炔、聚对苯撑乙烯撑(p-Phenylene Vinylene)、聚对苯(p-Phenylene)、聚噻吩乙烯撑(Thienylene Vinylene)、聚噻吩、聚苯胺、聚乙烯二氧噻吩、聚异苯并噻吩、聚吡咯、及聚苯硫醚(p-Phenylene Sulfide)构成的群中选择1种以上。
4.根据权利要求1或者2所述的离型膜,上述的防静电层的厚度为10nm~10μm。
5.根据权利要求1或者2所述的离型膜,上述的离型层是有机硅离型层。
6.根据权利要求1或者2所述的离型膜,上述的离型层的厚度为0.05~1μm。
7.根据权利要求1或者2所述的离型膜,上述的防静电层在基材膜的一面或者两面上形成,上述的离型层可以在上述的防静电层上形成,或者在上述形成防静电层的基材膜的一面和相反一面形成。
8.包含基材膜及离型层的离型膜的制造方法,包含在基材膜的一面或者两面涂布含有粘着剂和防静电剂的防静电混合物、形成防静电层的步骤。
9.根据权利要求8所述的离型膜的制造方法,其中上述的防静电混合物的重量作为100份的话,粘着剂的重量占5~25份,防静电剂的重量占1~30份,醇类的重量占5~30份,水的重量占10~50份。
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