[实用新型]双工位触摸屏ITO薄膜激光刻蚀机

权利要求书

1.双工位触摸屏ITO薄膜激光刻蚀机，包括机架、控制系统、计算机系统、激光发生器、吸附平台、二维振镜头和F-θ透镜组，控制系统、计算机系统、吸附平台和激光发生器都安装在机架上，激光发生器、二维振镜头和F-θ透镜组安装在吸附平台上方，激光发生器的激光出光孔与二维振镜头的激光进光孔同心，F-θ透镜组安装在二维振镜头下部，其特征在于：还包括一维运动平台；

一维运动平台安装在机架与吸附平台之间，吸附平台的长度大于所刻蚀ITO薄膜材料宽度的两倍。

2.根据权利要求1所述的双工位触摸屏ITO薄膜激光刻蚀机，其特征在于：还包括CCD定位系统，CCD定位系统安装在吸附平台上方，CCD定位系统由CCD摄像机、工业镜头和分析控制系统组成。

3.根据权利要求1或2所述的双工位触摸屏ITO薄膜激光刻蚀机，其特征在于：还包括横向运动装置，横向运动装置为一直线运动平台，安装在机架与激光发生器之间，横向运动装置的运动方向与一维运动平台方向垂直。

4.根据权利要求1或2所述的双工位触摸屏ITO薄膜激光刻蚀机，其特征在于：一维运动平台为直线电机驱动运动平台或伺服电机驱动运动平台。