[实用新型]双工位触摸屏ITO薄膜激光刻蚀机

说明书

技术领域

本实用新型涉及一种激光加工ITO薄膜设备，特别是涉及一种双工位触摸屏ITO薄膜激光刻蚀机。

背景技术

ITO薄膜即氧化铟锡(Indium-Tin Oxide)是一种透明导电膜玻璃，广泛用于液晶触摸屏、显示器(LCD)、太阳能电池、微电子ITO导电膜玻璃、光电子和各种光学领域。传统的触摸屏ITO薄膜主要采用化学蚀刻的方法生产，但随着苹果iphone中电容式多点触控技术的出现和Window7等操作系统对多点触控的支持，已经引发触摸屏的革命性变革，传统的化学蚀刻方法在加工精度（包括线性精度和线宽精度）、加工的效率以及良品率都无法满足要求。

激光具有高相干性、高方向性和高强度的特点，容易获得很高的光通量密度，将强的激光束聚焦到介质上，利用激光束与物质相互作用的过程来改变物质的性质，这就是激光加工。

激光刻蚀触摸屏ITO薄膜，速度快、工艺简单、容易控制、没有化学污染，越来越多的被使用。

目前，激光刻蚀触摸屏ITO薄膜有两种形式：一种是工作台或激光头二维平面运动，刻蚀的轨迹即为工作台或激光头二维平面运动轨迹；另一种是采用二维振镜头和F-θ透镜组，二维振镜头的振动电机偏转使激光光束运动，再经F-θ透镜组聚焦的焦点轨迹为激光刻蚀的轨迹。

专利号为201020302494.6的触摸屏ITO薄膜激光刻蚀设备是采用二维振镜头和F-θ透镜组，其刻蚀速度快，生产效率高，但是，此设备辅助工作时间长，一张加工材料的上料、对位和下料时间占去了很大一部分时间，虽然激光对ITO薄膜的刻蚀速度很快，但整个设备的效率仍然不高。

发明内容

本实用新型的目的是提供一种双工位触摸屏ITO薄膜激光刻蚀机，此双工位触摸屏ITO薄膜激光刻蚀机，生产效率高。

为了达到上述目的，本实用新型的双工位触摸屏ITO薄膜激光刻蚀机，包括机架、控制系统、计算机系统、激光发生器、吸附平台、二维振镜头和F-θ透镜组，控制系统、计算机系统、吸附平台和激光发生器都安装在机架上，激光发生器、二维振镜头和F-θ透镜组安装在吸附平台上方，激光发生器的激光出光孔与二维振镜头的激光进光孔同心，F-θ透镜组安装在二维振镜头下部，其特征在于：还包括一维运动平台；

一维运动平台安装在机架与吸附平台之间，吸附平台的长度大于所刻蚀ITO薄膜材料宽度的两倍。

因为吸附平台的长度大于所刻蚀ITO薄膜材料宽度的两倍，在吸附平台上可同时放置两张ITO薄膜材料，而在机架与吸附平台之间安装了一维运动平台，一维运动平台的运动使吸附平台和吸附在其上的ITO薄膜材料来回移动，移动到F-θ透镜组正下方部分吸附平台上的一张ITO薄膜材料被激光刻蚀，而吸附平台不在F-θ透镜组正下方部分用来上、下另一张ITO薄膜材料，当一张ITO薄膜材料刻蚀完后，一维运动平台的运动使放置好的另一张ITO薄膜材料移到F-θ透镜组正下方进行刻蚀，而先前刻蚀好的ITO薄膜材料被移出F-θ透镜组正下方，再进行下料、上料，如此反复，即在一张ITO薄膜材料激光刻蚀的同时完成另一张ITO薄膜材料上、下料，也就是双工位工作，辅助时间短，生产效率高。

所述的双工位触摸屏ITO薄膜激光刻蚀机，其特征在于：还包括CCD定位系统，CCD定位系统安装在吸附平台上方，CCD定位系统由CCD摄像机、工业镜头和分析控制系统组成。工作时，CCD定位系统对吸附平台上放置的ITO薄膜材料上的定位靶标摄像，通过像素分析比较ITO薄膜材料上定位靶标的位置与标准位置的差别，分析控制系统控制刻蚀软件对刻蚀位置进行调整，以补偿ITO薄膜材料位置的偏差。

所述的双工位触摸屏ITO薄膜激光刻蚀机，其特征在于：还包括横向运动装置，横向运动装置为一直线运动平台，安装在机架与激光发生器之间，横向运动装置的运动方向与一维运动平台方向垂直。因为采用二维振镜头和F-θ透镜组的激光刻蚀机，为了使其刻蚀的线性宽度乍、精度高，往往选用焦距短的F-θ透镜组，而焦距短的F-θ透镜组的刻蚀范围也就小，需要采用一维运动平台带动吸附平台和横向运动装置带动其上的激光发生器、二维振镜头及F-θ透镜组运动，从而实现多幅图拼接刻蚀，最终实现大幅面上的小线性宽度和高精度的刻蚀。

所述的双工位触摸屏ITO薄膜激光刻蚀机，其特征在于：一维运动平台为直线电机驱动运动平台或伺服电机驱动运动平台。

所述的二维振镜头内有两个高速伺服振动电机，每个高速伺服振动电机的轴上安装有激光反射镜片，两个高速伺服振动电机交叉安装。